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如何操作离子溅射仪的经验介绍

时间:2023-02-16      阅读:248

    离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择,以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。在结构设计及人机界面方面更加注重人性,简单智能。溅射率是描述溅射特性的一个最重要物理参量。它表示正离子轰击靶阴极时,平均每个正离子能从阴极上打出的原子数。又称溅射产额或溅射系数,常用S表示。
 
  1、一般工作距离可调,距离越近,溅射速度越快,但热损伤会增加。
 
  2、离子流的大小通过控制真空压力实现,真空度越低,I越大,溅射速度越快,原子结晶晶粒越粗,电子轰击样品(阳极)产生的热量越高;真空度越高,I越小,溅射速度越慢,原子结晶晶粒越细小,电子轰击样品产生的热量小。
 
  3、加速电压为固定,也有可调的,加速电压越高,对样品热损伤越大。一般使用金属靶材的正比区域。
 
  4、有些热敏样品,需要对样品区进行冷却,水冷或者帕尔贴冷却;也可以采用磁控装置,像电磁透镜一样把电子偏离样品。经过这样的改造,当然会增加很高的成本。可以在石蜡表面溅射一层金属,而没有任何损伤!
 
  5、真空中的杂质越多,镀膜质量越差。一般黄金比较稳定,可以采用空气作为等离子气源,而其他很多靶材则需要惰性气体为好。
 
  6、气体原子序数越高,动量越大,溅射越快,但晶粒会较粗,连续成膜的膜层较厚。
 
  7、保持真空室的洁净对高质量的镀膜有很大好处。
 
  8、不要让机械真空泵长期保持极限真空,否则容易反油。
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