优点

零水溶性

良好的耐化学性

良好的光谱范围

高折射率允许设计出色的抗反射 (AR) 涂层

高折射率意味着 ATR 应用中的穿透深度非常低

高折射率允许非常创新的折射元件光学设计

低成本

可以通过金刚石车削制造

缺点

自由载流子吸收限制了在高温下的使用

在不能使用增透膜的应用中，高折射率会限制传输

红外探测器窗口

ATR元素

单次反射 ATR 显微镜

聚光透镜 - 高折射率允许非常清晰的焦点用于显微镜应用

成像镜头——当与 AMTIR 元件结合形成消色差镜头时，可以实现出色的宽带成像

Ge 已被用作 FT-IR 分束器——这是通过在分束器的背面和补偿器的两侧使用 BBAR 涂层来实现的

光谱范围

短波极限：5,500 cm -1 (1 mm)
长波极限：432 cm -1 (1 mm)、574 cm -1 (4 mm)

涂层

Ge 的高折射率允许设计透射率大于 98% 的 BBAR 涂层。它还可以进行涂层以控制 ATR 应用中的穿透深度。

折射率1

具体指标上市；通用：4.00 @ 10 um

注1

透射率大于规定晶体厚度的 50% 的短波长和长波长限制。

HH 李; 锗和硅的折射率及其波长和温度导数。物理与化学杂志，参考数据，卷。9m (3), p. 561-601.1980.

物理数据

熔点：936 °C
密度：5.33 g/cm 3
在 H2O中的溶解度：不溶性
硬度：780 kg/mm 2
外观：金属

远红外传输 - 1 毫米厚的 Ge 窗口片

远红外传输 - 4 毫米厚的 Ge 窗口片

型号列表

Ge DisksGe :

Disks, XP-BBAR Coated (2–14 micron):

XP-BBAR™（宽带抗反射）涂层在Ge窗片上的应用显着增加了最宽光谱范围内的红外线透射。 该涂覆窗片针对优化覆盖2-14um的光谱区域。

Ge Disks, XP-NBAR Coated (8–12 micron):

XP-NBAR™（窄带抗反射）涂层在Ge窗片上的应用显着增加了在有限光谱范围内的红外透射。 该涂覆窗片针对优化覆盖8-12um的光谱区域。