UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统
UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统
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UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统

UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-12-18 08:59:13
1293
属性:
产地类别:国产;价格区间:面议;磨盘尺寸:φ300mm;磨盘个数:1个;应用领域:地矿,综合;转速:50-500rpm;
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产品属性
产地类别
国产
价格区间
面议
磨盘尺寸
φ300mm
磨盘个数
1个
应用领域
地矿,综合
转速
50-500rpm
关闭
沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品简介

UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统,包含自动镶嵌、研磨抛光以及清洗单元,可以实现从镶嵌-取样-研磨-清洗-抛光-清洗一体的全程序化自动流程,通过触摸屏操作可精确控制镶嵌到磨抛、清洗的所有参数,并能进行参数设定存档,并可一键启动程序,从而实现样品自动化操作的一致性。且镶嵌、磨抛、清洗单位均可以单独或搭配灵活使用,适用于金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验,以及需要大批量制样

详细介绍

产品简介UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统

UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统,包含自动镶嵌、研磨抛光以及清洗单元,可以实现从镶嵌-取样-研磨-清洗-抛光-清洗一体的全程序化自动流程,通过触摸屏操作可精确控制镶嵌到磨抛、清洗的所有参数,并能进行参数设定存档,并可一键启动程序,从而实现样品自动化操作的一致性。且镶嵌、磨抛、清洗单位均可以单独或搭配灵活使用,适用于金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验,以及需要大批量制样的材料研究行业工作者。

主要特点UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统
  • 全自动镶嵌+研磨拋光+清洗一次完成,节省人力。具有6个镶嵌工位,Max同时完成6个试样。

  • 可单独使用镶嵌或磨抛单元,也可镶嵌/磨抛单元合并使用,灵活搭配。

  • 镶嵌压力、温度、时间可任意调整,随材质的不同变化。

  • 镶嵌完成后,自动抓取样品进行研磨拋光。过程中可自动更换不同粒度的研磨砂纸和抛光垫。

  • 研磨时,气动单点加压样品,施力平均。

  • 研磨时,研磨盘上盘和下盘转速可任意调整,具有低转速高扭力的特点,方便使用。

  • 气压压力通过节流阀控制和调整,根据样品不同材质,任意调整所需压力。

  • 配备多组滴料装置,搭配使用,灵活性高。

  • 整机外壳钢板烤漆,耐用安全性高。

  • 方便的触控式人机操作界面,具备可编程的软件系统及程序储存。

  • 包含多种材料数据库,可满足对金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验。

  • 通过超声和高压水流实现对样品进行清洗,确保下一道工序不会被上一道工序残留物污染。

技术参数UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统
产品名称UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统
产品型号UNIPOL-1210M
主要参数

1、镶嵌单元

-单次热镶嵌个数:6个
-热镶嵌直径:30mm(高度不大于35mm)
-驱动方式:全自动电动液压
-加热温度:180℃
-加热时间:1-30min
-冷却时间:1-30min
-加热功率:1200w
-单工位压紧力:220kg

2、研磨抛光单元

-研磨抛光盘采用真空吸附方式
-研磨抛光盘数量:1个
-研磨抛光盘尺寸:φ300mm
-研磨抛光盘转速:50-500rpm
-载样盘孔径:φ30mm
-载样盘转速:10-60rpm
-多点中心加载压力,通过节流阀控制和调整压力
-单个样品Max加载力:1-5kg

3、储料单元

-通过程序设置自动更换研磨砂纸和抛光垫
-Max可储存16组磨片和抛光片,更换顺序可设定
-通过真空吸附固定在研磨抛光盘上
-通过程序可设置研磨/抛光时间和次数

4、清洗单元

-配备进水和排水
-配备超声清洗
-配备高压水流清洗
-配备废料回收装置

5、研磨抛光液配备

-水、研磨膏×1
-悬浮液×2
-预留1通道

6、其他

 

-镶嵌完成后,研磨头自动抓取试样至研磨抛光盘
-研磨过程中自动更换不同粒度的砂纸(粗磨、细磨)
-抛光过程中自动更换对应材质的抛光垫
-自动滴加所需水或研磨抛光液
-自动抓取试样到清洗单元清洗
-触摸操作屏实时显示各工序状态
-以上内容均可通过设置参数完成并储存,一键启动


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