美国Sutter公司的BV-10-B磨超微电极装置设计简单易用，在整个操作过程中其*的研磨板驱动系统可以迅速完成玻璃电极的研磨，能精密打磨斜面及直径在0.1和50µm之间的玻璃电极。磨板旋转平稳，基座配有磁力耦合，旋转速度约60rpm。且通过磨超微电极装置研磨的斜面玻璃电极，一方面降低了玻璃电极对细胞的穿透阻力，几乎能直接进入，另一方也能穿透非常小或困难的细胞。显微镜下用注射针头也受益于斜面，能以较小的损伤进入细胞。

   《主要应用》

   美国Sutter公司的BV-10-B磨超微电极装置适用于电生理实验用玻璃电极、细胞内外记录电极、微注射等各种玻璃微电极。

  《主要特点》

   ²无振动，斜面表面磁耦合

   ²磨盘表面为半波长（250nm）光学平面

   ²采用好的磨料

   ²同步时钟电动机确保稳定呢的转速

   ²7磅重的底座增加了额外的振动阻尼

   ²配有LED灯

   ²配有能控制打磨的精度和角度的微操作器

   《主要参数》

   1、打磨范围：0.1-50µm

   2、打磨的差异：小于1.0µm

   3、打磨速度：60RPM

   4、打磨角度：5-90度可调

   5、微操作器：粗调1.9mm，微调0.01mm

   6、电极电阻测量仪测量范围：0-10，0-100，0-500Ω。