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日立120kV透射电镜HT7800
面议Tundra 冷冻透射电子显微镜 (Cryo-TEM)
面议Cary 5000 紫外可见近红外分光光度计
面议紫外可见近红外分光光度计UH5700
面议紫外可见分光光度计 Lambda 650/850/950
面议SPECORD® 250 PLUS紫外可见分光光度计
面议紫外可见分光光度计UV-1900i
面议紫外可见分光光度计UV-2600i/2700i
面议紫外·可见·近红外分光光度计 UV-3600Plus
面议组合式多功能X射线衍射仪Ultima IV系列
面议EXPLORER 多功能X射线衍射仪
面议赛默飞ARL EQUINOX 3000 X射线衍射仪
面议德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备
该PECVD系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。主要技术参数:PC控制软件RF发生器 0~3000W 脉冲模式腔体防腐处理,400*400*1500mm,240L腔体加热80℃带观察窗多路工艺气体通道,MFC控制 防腐处理HMDSO单体通道易燃易爆气体安全阀Gas Shower气浴电极设备外尺寸2000*600*1700mm进口真空泵组电压 3项400V