一、原理

　　是一种利用等离子体的化学反应，以氧离子中和有机杂质的技术。其清洗原理为：等离子体发生等离子体化学反应，产生大量低能离子和自由基，可将污染物表面分子键振动，破坏有机物表面上的化学键，脱除或转化污染物。因为等离子体能够将各种气体分子、液体和固体的表面清洗干净，常用于对小型电子元器件的清洗.

　　二、特点

　　具有较高的清洗效率：真空等离子清洗机清洗xiao果显著，能够达到较高的清洗效率。

　　操作简单：操作简单，只需按照使用说明书进行操作即可。

　　成本低廉：相比传统清洗方法，小型真空等离子清洗机具有更低的成本，并且易于维护和修理。

　　效果持久：使用真空等离子清洗机清洗后的设备，在使用寿命方面得到了明显的改善。

　　三、使用方法

　　使用真空等离子清洗机的前提是需要明确清洗的目的、对象等。清洗时，可以按照以下步骤进行：

　　将待清洗的元器件放置于清洗仓内，然后关闭仓门。

　　设置好清洗仓内部的压力值和清洗时间。

　　开启真空泵，将仓内压力降到所设压力值。

　　开始清洗操作。

　　清洗结束后，关闭真空泵。

　　四、真空等离子清洗机的安全注意事项

　　在使用真空等离子清洗机进行清洗时一定要戴好防护用品，如手套、护目镜等。

　　严格按照使用说明书进行操作。

　　清洗仓内不得有易燃、易爆、腐蚀性较强的材料。

　　确保设备能够正常通风。

　　维护和保养设备时必须切断电源，并由专业人员进行维护。