物料制冷加热循环器 高低温液体循环装置
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物料制冷加热循环器 高低温液体循环装置

SUNDI-320物料制冷加热循环器 高低温液体循环装置

参考价: 订货量:
156448 1

具体成交价以合同协议为准
2024-04-26 11:42:53
61
属性:
产地类别:国产;价格区间:10万-20万;应用领域:化工,生物产业,石油,制药,综合;
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产品属性
产地类别
国产
价格区间
10万-20万
应用领域
化工,生物产业,石油,制药,综合
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无锡冠亚恒温制冷技术有限公司

无锡冠亚恒温制冷技术有限公司

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产品简介

【无锡冠亚】物料制冷加热循环器 高低温液体循环装置,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

详细介绍

物料制冷加热循环器 高低温液体循环装置


无锡冠亚冷热一体机典型应用于:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制




型号

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介质温度范围

-10℃~+200℃

控制系统

前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器

温控模式选择

物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择

温差控制

设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定

程序编辑

可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤

通信协议

MODBUS RTU 协议  RS 485接口

外接入温度反馈

PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)

温度反馈

设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度

导热介质温控精度

±0.5℃

反应物料温控精度

±1℃

加热功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量压力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

压缩机

海立

艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机

膨胀阀

丹佛斯/艾默生热力膨胀阀

蒸发器

丹佛斯/高力板式换热器

操作面板

7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录

安全防护

具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。

密闭循环系统

整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。

制冷剂

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

温度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (风)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(风) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正压防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常规重量kg

115

165

185

235

280

300

电源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

选配风冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

 

 

  随着科技的不断进步,半导体行业制程工艺过程中,高低温控温设备扮演着一定的角色。本文将探讨半导体行业用高低温控温设备在该行业的应用。

  一、高低温控温设备的重要性

  在半导体生产过程中,许多工艺步骤需要在特定的温度环境下进行。例如,某些材料的生长、薄膜的沉积、晶圆的蚀刻等过程都需要准确控制温度。过高或过低的温度都可能导致产品质量下降,甚至导致生产失败。因此,高低温控温设备对于保证半导体生产过程的稳定性和产品质量至关重要。

  二、高低温控温设备的应用

  1、生长和沉积过程:在半导体材料的生长和薄膜的沉积过程中,需要准确控制温度以保证材料的结构和性能。高低温控温设备能够提供稳定的温度环境,从而确保这些过程的顺利进行。

  2、晶圆蚀刻:晶圆蚀刻是半导体制造过程中的步骤之一。在这个过程中,需要准确控制温度以保证蚀刻剂的活性和蚀刻速率。高低温控温设备能够满足这一需求,从而确保晶圆蚀刻的质量和效率。

  3、测试和封装:在半导体产品的测试和封装过程中,也需要准确控制温度。高低温控温设备能够提供各种测试所需的温度环境,从而确保产品的性能和可靠性。

总之,高低温控温设备为半导体生产提供了稳定的温度环境,从而保证了生产过程的稳定性和产品质量。




  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

TT物料制冷加热循环器 高低温液体循环装置

物料制冷加热循环器 高低温液体循环装置


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