TAISEI/日本 品牌
经销商厂商性质
深圳市所在地
原厂现货TAISEI 蚀刻CVD气态除粉装置
TRAPACK是一种粉末去除捕集器,可去除半导体和液晶制造设备废气中的反应产物(细粉)。结构有涡流旋流吸附型、磁性元件型(Trapac Element)以及两者结合的组合型三种。特别是,组合型排除了蚀刻设备和CVD设备发出的亚微米细粉。
清洁废气管道 减少前线阀门的维护 真空泵故障预防 提高生产力 减少前线维护
外观结构 特征
去除细小反应产物(细粉)
单元密度低,网格空隙大
粉末分层在元件的表面和内部。
主要用途 规格
注入 ・一次元件/Trapac元件
蚀刻 ・次要元素/无
安装位置/真空、排气
TU-KN100
(元件型) 主要用途:通用
元件类型:DL
端口尺寸:NW25
尺寸:D90mm x H195mm
重量:1.9kg
TU-KN200
(元件型) 主要用途:通用
元件类型:EL
端口尺寸:NW40
尺寸:D140mm x H210mm
重量:4.6kg
TU-KN500
(元件型) 主要用途:通用
元件类型:GL
端口尺寸:NW40
尺寸:D210mm x H260mm
重量:10kg
TU-KN500W
(元件型) 主要用途:通用
元件类型:HL
接管尺寸:NW40
尺寸:D210mm x H390mm
重量:13kg
TU-200
(元件型) 主要用途:
植入 元件类型:EL
连接尺寸:NW25
尺寸:D210mm x H210mm
重量:5.3kg
TU-250
(元件型) 主要用途:
植入 元件类型:FL
连接尺寸:NW40
尺寸:D210mm x H295mm
重量:6.5kg
TU-500
(元件型) 主要应用:厂内/蚀刻
元件类型:GL
连接直径:NW40
尺寸:D300mm x H267mm
重量:10.0kg
TU-500W
(元件型) 主要应用:植入/蚀刻
元件类型:HL
连接尺寸:NW40、NW50
尺寸:D300mm x H415mm
重量:13kg
TU-1000
(元件型) 主要应用:就位/蚀刻
元件类型:GL
连接尺寸:NW40、NW50
尺寸:D300mm x H555mm
重量:16.5kg
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TRAPPACK(Uzu型)
这是一种气体除粉装置,是 Trapac 的进一步发展,配备了漩涡型元件。
外观结构 特征
由于螺旋结构,粉末不会长时间经历压力损失
几乎所有粉末都被涡流数和涡流螺距的组合拒之门外。
粉末分层在安装的涡流元件的表面上。
・主要用途 / CVD、蚀刻 ・一次元件 / 涡流元件
・二次元件 / 无 ・安装位置 / 真空、排气
TU-50LM /LMJ
(涡流型) 主要用途:蚀刻/CVD
元件类型:ASD-50 涡流
连接尺寸:NW40、NW50
尺寸:□370mm x H707mm
重量:53kg / 68kg
TU-65LM /LMJ
(涡流型) 主要用途:蚀刻/CVD
元件类型:ASD-65 涡流
连接尺寸:NW40、NW50
尺寸:□400mm x H1013mm
重量:94kg / 99kg
TU-85LM /LMJ
(涡流型) 主要用途:蚀刻/CVD
元件类型:ASD-85 涡流
连接尺寸:NW40、NW50
尺寸:□430mm x H1064mm
重量:100kg / 115kg
TU-95LM /LMJ
(涡流型) 主要用途:蚀刻/CVD
元件类型:ASD-95 涡流
连接尺寸:NW40、NW50
尺寸:□485mm x H1064mm
重量:145kg / 160kg
TU-105LM /LMJ
(涡流型) 主要用途:蚀刻/CVD
元件类型:ASD-105 涡流
连接尺寸:NW40、NW50
尺寸:□535mm x H1264mm
重量:180kg / 240kg
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TRAPPACK(组合型)
TRAPACK的进一步进化,配备组合型元件(涡流型+元件型)的气态除粉装置。
外观结构 特征
去除细小反应产物(细粉)
单元密度低,网格空隙大
粉末在螺旋和元件部分分层。
・主要用途 / CVD、蚀刻 ・一次元件 / 涡流元件
・二次元件 / Trapak 元件 ・安装位