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Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章
纳米级纹理凹槽表面
可变凹槽周期和凹槽深度
纳米光子学研究应用的理想选择
型号
| 产品编码 | Period (nm) | 尺寸 (mm) |
| 16-855 | 855 ±42.75 | 12.50 x 12.50 |
| 16-856 | 855 ±42.75 | 25.00 x 25.00 |
| 16-857 | 139 ±6.95 | 12.50 x 12.50 |
| 16-858 | 139 ±6.95 | 25.00 x 25.00 |
详细资料
Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章由在单晶硅基板上形成图案的纳米级纹理表面组成。通过反应离子蚀刻，具有梯形横截面的线性凹槽被蚀刻到基板表面，类似于传统的光栅。蚀刻工艺可为这些凹槽提供不同的周期和深度规格，以及更复杂的图案，例如晶格。II-VI LightSmyth™ 纳米图案硅印章是光学和光子学、生物学、化学、纳米压印和微流体领域的纳米光子学研究应用的理想选择。
请注意: II-VI Incorporated 已变更为 Coherent Corp.
技术数据
