凯尔克kelk化学溶液恒温循环器控制器半导体 RX-610-R 特点介绍

湿法工艺的直接循环化学恒温装置，具有在线冷却和加热装置，不会造成金属离子洗脱和污染。

KELK的化学循环器能够高精度地控制RCA清洗和湿法蚀刻中使用的药液温度，作为半导体制造湿法工艺中的设备，得到了广泛的喜爱。

为了响应近年来使用药液的多样化、高兆位化带来的清洁度提高的要求，进一步进行了更新。（注）作为高温药液用，建议使用CS加热器。

冷却加热部的传热接液部件使用高纯度的玻璃状碳，无需担心溶出金属离子造成的污染，也不需要表面保护膜，也不会因剥离而降低能力。

由于橡胶O型圈不直接接触液体的密封结构，因此无需选择酸性液体、碱性液体等每种药液的密封材质。

由于采用电子冷热方式，因此适用于室温附近的温度控制且精度高。

本装置符合国际保护标准IP31.

装置内置检测药液和冷却水泄漏的漏液传感器、检测异常温度的温度开关，因此您可以放心使用。

凯尔克kelk化学溶液恒温循环器控制器半导体 RX-610-R 特点介绍

半导体制造湿法工艺中使用的药液的温度管理

●RCA清洗液

●蚀刻液

●光刻工序显影液

其他领域中的各种药液的温度管理

●不能使用电镀液、各种表面处理液、其他（注）含有臭氧的药液。