日本kelk超纯水加热装置用于清洗硅晶片等 PWH-144i 特点介绍

热水供应装置非常适合使用超纯水对硅晶片和液晶玻璃基板进行现场清洗。

本装置是对半导体制造线上的硅芯片的清洗、液晶制造线上的玻璃基板的清洗等使用的超纯水进行加热的装置。

加热部由高品质石英玻璃双层覆盖的卤素灯组成，无杂质污染，高效的超纯水加热安装。

而且，特别是紧凑型由于设计精巧，使用点的安装空间最小化。

日本kelk超纯水加热装置用于清洗硅晶片等 PWH-144i 规格参数

1.清洁加热部的容器为石英玻璃，配管部为氟树脂。2.紧凑型，不占用安装面积。3.高性能温控高输出卤素灯带来的优异的升温上升特性和流量变化的温控。4.高效率加热效率95%以上。5.安全过温空中燃烧通过针对漏水等的安全功能及警报功能，对应安全性。1.硅芯片清洗2.液晶用玻璃基板的清洗3.代替其他氟氯化碳系清洗的温纯水清洗

热水供应装置非常适合使用超纯水对硅晶片和液晶玻璃基板进行现场清洗。

本装置是对半导体制造线上的硅芯片的清洗、液晶制造线上的玻璃基板的清洗等使用的超纯水进行加热的装置。

加热部由高品质石英玻璃双层覆盖的卤素灯组成，无杂质污染，高效的超纯水加热安装。

而且，特别是紧凑型由于设计精巧，使用点的安装空间最小化。