日本HORIBA用于半导体超纯水二氧化硅监测器 HORIBA/堀场 SLIA-300 特点介绍

超纯水二氧化硅分析多项成果！

新的紧凑和高灵敏度性能。

超纯水中的二氧化硅浓度对半导体/FPD 工艺中的产品精度和产量有重大影响。

我们将可靠地满足1μg/L（1ppb）量级的测量要求。桌面型紧凑机身可在整个测量范围内进行高灵敏度测量。

凭借其高速响应和自诊断功能等丰富的基本性能，以及新的高灵敏度性能，有力支持半导体/FPD制造的纯水工艺。

日本HORIBA用于半导体超纯水二氧化硅监测器 HORIBA/堀场 SLIA-300 规格参数

高灵敏度、高重复性

一种新开发的细胞实现了可以处理低浓度的高灵敏度。

高速 5 分钟测量可保证 0 至 2 µg/L 范围内的重复性为满量程的 ±2%。

紧凑的桌面设计

新开发的电池实现了创新的紧凑设计。由于它是桌面型，因此可以适应包括狭小空间在内的各种安装条件。也可以将其用作移动设备。

试剂消耗减少1/5

通过采用改进的反应池，试剂消耗量减少至常规用量的1/5。可显着降低试剂运行成本。

最多可测量 6 个点（可选）

测量点可从1点到6点任意设定。支持使用单个设备进行更多多点测量。

自诊断功能，监控异常运行

样水、试剂注入、校准异常、池温监测、光源异常等操作异常自诊断。如果出现错误，将以文本形式发送一条消息并发出警告灯。