热蒸发镀膜
热蒸发镀膜

ABN-450-S4热蒸发镀膜

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-08-21 15:35:16
220
属性:
产地类别:国产;价格区间:面议;应用领域:环保,化工,能源,印刷包装,综合;
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产品属性
产地类别
国产
价格区间
面议
应用领域
环保,化工,能源,印刷包装,综合
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艾博纳微纳米科技(江苏)有限责任公司

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产品简介

热蒸发镀膜采用电阻式热蒸发结构,该系统可蒸镀多种金属材料(金、银、铜、铝等),也可以蒸镀多种有机材料(NPB、ALq3、BCP、TPBi、C60等),以及多种无机材(LiF、SnO2、MoO3等)。该系列设备广泛应用于各高校、科研院所、科研实验室以及企业前期探索性实验等。

详细介绍

  热蒸发镀膜的产品介绍:

  1.真空系统

  真空腔体由标准的304不锈钢焊接而成,内部形状为长方体,其尺寸为600mm*600mm*700mm,电解抛光处理,减少内部材料放气现象。真空腔体上安装有电极,基片系统,真空系统,气路系统等部件;真空腔体配备两个可以打开的门,前门为移门,通过与直线导轨,滑块等装置连接,可使前门左右开启与关闭,后期也可以连接手套箱,在手套箱内部操作前门开关,确保整个工作环境处于氮气或惰性气体氛围中;后门旋转门,通过旋转轴实现后门的开关,开启后腔体内部暴露在空气中,主要的目的为维护检修,并配一个长方形观察窗,配合腔体外部照明灯,方便观察腔体内部状况。腔体侧面装有抽气主管道,分子泵,插板阀,真空计,充气阀,角阀等真空配件,在腔体洁净,无污染的情况下,极限真空5*10-5pa,四十分钟可达到大气至5*10-4pa,系统停泵关机12小时后,真空度≤5Pa。该系统可以在不停分子泵的前提下,对腔体内部材料添加、更换,也可以取放基片。

  2.样品系统

  该设备的样品架采用嵌入式结构,可搭载一片210mm*210mm基片,向下兼容,也可以搭载多片定制数量小基片;基片带冷却系统;掩模版到基片距离小于0.1mm。

  样品架通过旋转轴,磁流体,联轴器,电机等装置连接,从而可实现0~30转/分钟。配备1套基片挡板系统,可以根据实际工作需求开启与关闭。

  3.沉积系统

  该系统配备4组蒸发源,可对金属,有机,无机物等材料进行蒸镀,每组蒸发源均配备冷却系统,4组蒸发源按照R-D-matin-ME系列舟蒸发源设计;源和源之间有隔板,防止交叉污染及隔绝一定温度辐射。

  各个源均可通过继电器切换与一台可编程直流电源连接,电源设定为恒流模式,调节电流的大小来对蒸发源上的负载进行加热,(TDKGEN8-1801.5KW可编程直流电源,升温温度1500℃,精度0.1A)从而使得负载上的材料达到一定温度后发生蒸发现象。通过膜厚仪上的数据,可实时反馈出材料蒸发的速率(采用1台InficonSQC-3102通道膜厚仪,厚度和速率分辨率±0.015Å,速率显示0.01Å/s,可同时显示2个膜厚探头的读数),沉积厚度等信息。也可以通过编辑膜厚仪程序,到达自动蒸镀的效果。

  4.控制系统

  热蒸发镀膜采用工控机控制系统,可实现自动一键式抽真空,也可以在手动模式下,控制机械泵、角阀、插板阀、分子泵的开启和停止,软件中含有各个电气设备的软件互锁和状态反馈,确保不会因误操作导致设备的损坏,还可以在手动模式下,控制基片旋转,挡板开关,电极的切换等一系列操作。速率控制模式可以设定蒸发材料的速率值,与膜厚仪中探头检测的实际值比较,通过速率控制PID模块调节加热电源的输出;通过膜厚仪与工控机串口通讯,将蒸发速率、蒸镀膜厚和输出功率一同在软件中实时显示,方便操作人员监测实验过程;登陆软件需要用户名和密码,不同的用户名对应不同的操作权限,确保操作人员不会误操作到设备的参数设置

  


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