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超快泵浦探测阴影成像系统-UPSI100主要利用调节pump和probe光之间的光程差来进行测试。首先激光打在样品上，样品表面会产生一定 程度的损毁，由于本过程很快（ps量级）因此单使用相机连续采集不能够完整的观察到整个损毁的过程。在本仪器中，当每一次激光打在样品后，便可通过延迟线调节两个光脉冲之间的延迟，从而分别采集激光打在样品后不同时刻样品损毁情况。
超快泵浦探测阴影成像系统-UPSI100主要技术指标
| 检测模式 | 超快光损伤/等离子溅射 |
| 时间窗口范围 | 8 ns |
| 探测器类型 | ICCD，门控时间3 ns |
| 探测时间分辨率 | 1.5倍激光脉宽 |
| 激发光聚焦镜头 | 20X/50X 可选 |
| 样品移动方式 | 全自动样品二维电控移动平台 |
| 软件功能 | 数据采集/分析软件 |
本功能主要利用相机的门采集功能以及延迟来采集不同时刻，样品等离子体溅射过程。整个测试流程是激光聚焦打在样品上，样品会产生等离子体此时相机的曝光时间固定，曝光时间就相当于一个“门”，再通过时序来调节“门”相对于激光打在样品上的时间为0来进行延迟，从而分别拍出不同时间等离子体的溅射过程。
