离子溅射仪是采用离子溅射的方式进行镀膜的仪器。溅射的定义是用带有几百电子伏特以上动能的粒子或粒子束轰击固体表面，使靠近固体表面的原子获得入射粒子所带能量的一部分而脱离固体进入到真空中，这种现象称为溅射。溅射一般是在辉光放电过程中产生的，辉光放电是溅射技术的基础。
一、影响溅射率的因素
溅射率是描述溅射特性的一个最重要物理参量。它表示正离子轰击靶阴极时，平均每个正离子能从阴极上打出的原子数。溅射率与入射离子的种类、能量、入射角度及靶材的类型、晶格结构、表面状态、升华热大小等因素有关，单晶靶材还与表面取向有关。
二、离子溅射仪常见故障，分以下四种：
1、故障现象：使用一段时间后，溅射电流变小
解决方法：对靶材有无变色、破裂和油污等现进行检查。前两者对靶材进行更换，后者被油蒸汽污染，通过无水乙醇进行清洁，等到干了以后才能够抽真空。
2、故障现象：在使用一段时间以后，有着过低的真空。
解决方法：对溅射室中或管道内是否有油进行检查，能够使用汽油进行清洗。
3、故障现象：溅射电流不稳定忽高忽低
解决方法：阴极罩与靶的固定环有着过近的距离，将阴极罩逆时针旋转，对间距进行调整。
4、故障现象：有着过低的真空
解决方法：将放气阀、漏气阀和观察泵的油窗液面旋紧。
