椭偏仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量仪器。由于测量精度高，适用于超薄膜，与样品非接触，对样品没有破坏且不需要真空，使得椭偏仪成为一种JI具吸引力的测量仪器。
基本原理：
椭偏仪利用偏振光测量薄膜或界面参量，通过测量被测样品反射(或透射)光线偏振状态的变化来获得样品参量。
椭偏仪的应用：
由于测量精度高，适用于超薄膜，与样品非接触，对样品没有破坏且不需要真空，使得椭偏仪成为一种JI具吸引力的测量仪器。椭偏仪/椭圆偏振仪现在已被广泛应用于材料、物理、化学、生物、医药等领域的研究、开发和制造过程中。
可测材料：半导体、介电材料、有机高分子聚合物、金属氧化物、多层膜物质和石墨烯等等。
椭偏法测量具有如下特点：
1.能测量很薄的膜（1nm），且精度很高，比干涉法高1-2个数量级。
2.是一种无损测量，不必特别制备样品，也不损坏样品，比其它精密方法：如称重法、定量化学分析法简便。
3.可同时测量膜的厚度、折射率以及吸收系数。因此可以作为分析工具使用。
4.对一些表面结构、表面过程和表面反应相当敏感。是研究表面物理的一种方法。
