由于机械加工导致的样品表层边缘遭到破坏且所积累的残余应力无法得到释放，最终造成无法获得样品表层纳米梯度强化层真实精准的原位力学性能。离子研磨系统可以无应力的去除样品表面层，加工出光滑的镜面。兼容平面和截面两种加工方式，为相关检测的样品制备提供了有效的解决方案。
离子研磨仪的原理：
离子研磨法是利用通过电场加速过的离子轰击样品表面，在样品表面产生溅射效应，由此制备尺度为毫米级别的平滑表面的研磨方法。氩气属于惰性气体，基本不会和样品发生化学反应，因此通常我们采用Ar作为离子源轰击样品。SEM样品常用到的离子研磨法有截面研磨和平面研磨两种。
日立IM4000Plus离子研磨仪利用氩离子对样品即可以进行平面研磨，也可以进行截面切割，是对样品进行无应力加工的理想工具，不会产生传统的切割或机械抛光带来的变形错位、机械应力或划痕污染等对样品的形貌观察和结构分析带来的不利影响，通过制冷功能可以对受热易损伤的样品进行加工。
特点：
1.即可进行截面切割，也可进行平面研磨
2.加工效率更高，截面约500μm/h
3.程序控制间歇式加工
4.通过制冷功能可以对受热易损伤的样品进行加工
