“旋涂机”是一种利用旋转离心力的涂布装置，也被称为“旋转涂布机”。对于平滑的被涂物（工件），能够形成薄且均匀的涂层。旋涂机的用途非常广泛，代表性用途包括半导体晶圆的表面处理、光阻涂布等流程类工序，以及光学媒介涂膜、镜头底剂及调光液的涂布等。
A. 旋转 B. 被涂物表面C. 涂液
将涂液滴落在被涂物（工件）的中心，进行高速旋转。加速旋转会对涂液施加离心力，使涂液扩散到整个表面并成膜。涂布膜厚取决于涂液的粘度、被涂物的转速、旋转启动加速度、与干燥速度相关的排气。
旋涂的原理是依靠旋转离心力将多余的涂液甩离被涂物，因此实际成膜的液量要少于滴落的液量，存在会导致材料损耗的缺点。
为了通过排气控制干燥速度，防止涂液飞溅到设备外部，避免异物混入，旋转体及滴落的机构通常都会被收纳在箱体中，或采用涂裱时关闭上盖的设计式样。
设备的基本原理在近几十年并未改变，但适用于被涂物不同尺寸、重量、材质的装置，转速（速度）控制、自动滴落之类的规格功能等，都实现了更加多样化的发展。
