一、高衬度的低电压VC（voltage contrast）成像
蔡司Gemini电子光学技术拥有优异的低电压成像能力，能获得准确的电压衬度（PVC）图像，用于快速的失效定位。
▲ SRAM区域的电压衬度图像
二、有利于电性表征的不漏磁光学系统
蔡司Gemini镜筒可实现不漏磁的超低电压成像，是纳米探针（nanoprobing）测试的理想平台。具备3nm制程的测试能力，且能实现低至100eV的SEM实时成像，极大地降低电子束辐照损伤。
▲ 80V加速电压下成像，SRAM区域和八根纳米探针
三、创新的探测器技术提升速度、分辨率和衬度
亚表面结构的观察和快速导航需要高扫描速度、高分辨、高信噪比的高电压成像。蔡司高速背散射电子探测器（Rapid BSD）满足了这类使用需求。
▲ 5nm FinFET的背散射电子图像
四、超大视野的高分辨成像
在大面积成像中实现精度和效率的兼顾需要大视野无畸变成像的能力，Gemini镜筒的设计提供了12mm的观察视野和最大32k x 24k像素的分辨率，可以实现单张图片的大视野高分辨，也可使用自动的拍图拼图工作流程进一步提升效率。
▲ 2.5D封装截面，单张图大视野成像
五、稳定性和易用性
改变电压、束流时保持聚焦和视野的一致性能显著提高日常FA工作的效率，蔡司Gemini镜筒的稳定性更好地实现了这一特点。
▲ 切换电子束加速电压时图像变化
六、为半导体应用专用定制的软件解决方案
蔡司Solutions Lab可为半导体用户快速开发专用于特定场景的定制化解决方案，无论是自动化工作流程、AI助力的特征识别、分割、导航、量测或数据管理，我们都能为您提供专业支持。利用蔡司显微镜的潜力，更高效获得所需的数据。
▲ 使用可视化编程工具实现电镜的自动化工作流程
