步进曝光机是一种用于光刻（半导体和液晶制造工艺）的投射曝光设备。
随着IC电路图案的小型化，制作全尺寸光掩模图案变得困难。这是指在对大于实际尺寸的掩模图案进行缩小投影曝光时进行分步重复曝光的曝光设备
步进机是一种曝光设备，通过执行步进和重复来曝光整个待曝光区域。
步进机用于半导体和液晶的制造，特别是用于光刻过程中使用掩模的曝光处理。
步进法包括步进重复法和步进重复法，其中，由于一次可以转移的面积较小，因此在步进时将晶圆顺序曝光；以及步进重复法，其中称为扫描仪的标线和存在一种使用步进机进行曝光的类型，该类型与步进机不同，并且可以将其视为扫描仪。
为了对大直径晶圆和液晶进行高速缩小投影曝光，步进机使用短波长的光源以获得高分辨率，并将IC掩模图案投影并曝光在光罩上后，移动平台曝光晶圆的过程涉及重复多次图案曝光。步进机的内部结构包括曝光光源、投影镜头、晶圆台、晶圆装载机等。
由于IC大规模集成的需求，已开始使用波长较短的曝光光源。这是因为小型化是理想的，并且一般来说，用于曝光的光的波长越短，分辨率越高。 20世纪90年代，365 nm的i线是主要焦点，但此后波长变得更短，例如Krf（波长248 nm）和Arf（波长193 nm）。
晶圆载物台是为了更快、更高效地制造IC和其他半导体而高速移动晶圆的载物台。除了高速移动之外，由于精细加工还需要高定位精度。晶圆装载机负责传送晶圆，例如从晶圆台上取出晶圆并将晶圆放置在其上。
异物的粘附是IC制造中的一大敌人，精密的晶圆必须高速装载和卸载。步进机具有上述结构，一边使晶圆步进一边进行顺序曝光。
