现代社会从收音机到携带,计算机及电视都离不开集成电路,而集成电路的生产和发展都离不开真空。
水蒸气遇冷会变成水滴。如果不是水蒸气而换成铝或其他材料,则同样原理就是真空镀气。高真空中通过加热使铝蒸发,铝蒸气飞到目标表面而成膜。如果不是在真空状态,则铝会燃烧起来。
用久的萤光灯两边会发黑,这是溅射成膜的现象。惰性气体Ar在灯管中经过放电而成离子状态。高速的Ar离子撞击其他材料后使其蒸发。溅射成膜法不利用加热而是利用使气体分子离子化而完成。
除此之外,通过各种气体的化学反应而成膜（CVD）的方法也被广泛使用。各种成膜方法各有特长,要根据需要而定。
真空状态不仅仅被利用于成膜方面,精密形成的薄膜上沾了灰尘或油滴之后会出现严重的后果。集成电路中细线的宽度是吸烟时吐出的烟雾颗粒的1/3, 是一颗灰尘的近万分之一。对集成电路而言,哪怕一颗烟雾的颗粒,就好象大路上停了一架大型飞机一样,无法通过或造成短路。为了不让灰尘落到正在生产的集成电路上,需要真空环境。
科研领域更是离不开真空。宇宙开发方面,为了模拟宇宙空间,当然需要真空状态。人造卫星,火箭的生产也需要真空。观察原子的显微镜如果不是在真空状态就无法观测到物质的表面。物理学中zui先端的粒子加速器中的粒子,在超高真空状态中被加速到接近光速。
