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EDC-650Hz-23NPPB Laurell-EDC匀胶显影机

型号
EDC-650Hz-23NPPB
迈可诺技术有限公司

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Laurell匀胶显影机EDC

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EDC湿法刻蚀显影机

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匀胶机,光刻机,显影机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,紫外固化箱,压片机,等离子去胶机,刻蚀机,加热板

半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。



详细信息


Laurell-EDC匀胶显影机(英文名:Developing)

型号:EDC-650Hz-23NPPB

产地:美国

一、产品概述:

Laurell-EDC匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。一般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。

二、匀胶显影机工作原理:

显影系统具有可编程阀,它可以使单注射器试剂滴胶按照蚀刻、显影和清洗应用的要求重复进行,如冲洗(通常是去离子水或溶剂),然后干燥(通常是氮气)后的处理步骤。采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在*干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。匀胶显影机还有可选择的动态线性或径向滴胶的特性。

三、匀胶显影机主要性能指标:

1、腔体尺寸:9英寸 (220 毫米);

2、Wafer&芯片:直径6英寸(150毫米)的晶圆片或者5x5英寸(125毫米)的方片;

3、非真空托盘:聚丙烯材质非真空托盘,可承载2、3英寸及150毫米的晶圆片-并带有背面清洗功能;

3、转动速度:0-12,000rpm,

5、马达旋涂转速:稳定性能误差 < ±1%;

6、工艺时间设定:1-5999.9 sec/step 0.1 精度;

7、高精度数码控制器:PLC控制,设置点精度小于0.006%;

8、程序控制:可存储20个程序段,每个程序段可以设置51步不同的速度状态;

9、分辨率:分辨率不超过1转/分,可重复性不超过1转/分,美国国家标准技术研究院(NIST)认证过的,并且无需再校准!]

10、腔体开关盖板:透明ECTFE材质圆顶盖板,便于实时进行可视化操作;

11、腔体材质说明:用聚丙烯材质制成的带有联动传感触点的合瓣式舱体;
12、配套分析软件:SPIN3000操作分析软件;

13、配套真空泵系统:无油型 220~240伏交流,50/60赫兹;



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