$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>湿法工艺设备>化学机械抛光机(CMP)

CP-4 化学机械抛光设备

型号
CP-4
参数
产地类别:进口 价格区间:20万-30万 应用领域:医疗卫生,食品,石油,建材,电子
北京亿诚恒达科技有限公司

免费会员 

代理商

该企业相似产品

CTS AP-200 CMP化学机械抛光机

在线询价
万能材料试验机,疲劳试验机,冲击试验机,电化学工作站,恒电位/恒电流仪,石英晶体微天平,三维形貌仪,轮廓仪,原子力显微镜(AFM),扫描探针显微镜(SPM),摩擦磨损试验机,瓶盖扭矩测量仪,轴承扭矩测量仪,高频疲劳试验机

亿诚恒达科技有限公司,在北京和香港两地注册。北京公司位于北京海淀中关村核心区域,是一家专门代理营销进口科学仪器、测试测量设备的高科技企业,所经营的产品涵盖材料科学、化学分析、绿色能源、半导体及微电子科学等领域。公司本着“诚信、务实、品质、服务”的经营理念,已经为国内许多用户提供了*的仪器设备,专业的技术咨询和完善的售后服务。

公司主要代理产品有:*材料试验机,疲劳试验机,冲击试验机,电化学工作站,恒电位/恒电流仪,石英晶体微天平,三维形貌仪,轮廓仪,原子力显微镜(AFM),扫描探针显微镜(SPM),摩擦磨损试验机,瓶盖扭矩测量仪,轴承扭矩测量仪,高频疲劳试验机。

亿诚恒达科技有限公司愿与客户携手,共创美好未来!

详细信息

CP-4化学机械抛光设备

CP-4是*的台式化学机械抛光设备(CMP),可以很好的满足您的研发需求。*软件控制,可以对直径4英寸的晶圆和磁盘进行抛光。 CETR-CP-4可检测原位摩擦力,摩擦系数,温度,下压力,磨损,声发射等,可以模拟所有的参数,如速度,负载和流量,来模仿一个大的CMP系统。


的研究和开发的各个方面
• 测试和开发各种不同的微粒,材料,浓度,氧化剂,抑制剂等的抛光液
• 测试和开发不同的材料,沟槽形状,尺寸,弹性,寿命等
• 测试和发展抛光垫调节装置来优化抛光垫的损耗率,修整,效率等
• 开发CMP定位环材料来优化摩擦,磨损,寿命等
• 测试去除率,重复性缺陷,工艺优化等,研究或开发各种应用的各种材料
• 半导体方面 - 铜,Ta, TaN, Al, Si, SiO, Ru, WC, solar cells, PVD, CVD, 薄膜等
• 化合物半导体 - 砷化镓,铟,磷化物,汞,镉
• 应用生物材料 - 牙,骨,钛,钢铁制品等。
• 光电材料 – LED,蓝宝石,红外窗口抛光激光材料,显微镜头,微光学,铌酸锂,钽酸锂,磷酸氧钛钾等。

同时实时监测及处理
• 通过在晶圆垫和调节垫界面处的拥有的传感器,测量负载和摩擦力,
• 通过在晶圆垫和调节垫界面处的拥有的传感器和放大器,测量接触噪声
• 使用声波表征的缺陷、划痕,并在加工过程中分层
• 监测流入的抛光液,抛光片表面和流出废液的温度 .

相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

产地类别 进口
价格区间 20万-30万
应用领域 医疗卫生,食品,石油,建材,电子
企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :