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CTS AP-200 CMP化学机械抛光机

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应用领域:医疗卫生,环保,化工,农业,石油
北京亿诚恒达科技有限公司

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化学机械抛光设备

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万能材料试验机,疲劳试验机,冲击试验机,电化学工作站,恒电位/恒电流仪,石英晶体微天平,三维形貌仪,轮廓仪,原子力显微镜(AFM),扫描探针显微镜(SPM),摩擦磨损试验机,瓶盖扭矩测量仪,轴承扭矩测量仪,高频疲劳试验机

亿诚恒达科技有限公司,在北京和香港两地注册。北京公司位于北京海淀中关村核心区域,是一家专门代理营销进口科学仪器、测试测量设备的高科技企业,所经营的产品涵盖材料科学、化学分析、绿色能源、半导体及微电子科学等领域。公司本着“诚信、务实、品质、服务”的经营理念,已经为国内许多用户提供了*的仪器设备,专业的技术咨询和完善的售后服务。

公司主要代理产品有:*材料试验机,疲劳试验机,冲击试验机,电化学工作站,恒电位/恒电流仪,石英晶体微天平,三维形貌仪,轮廓仪,原子力显微镜(AFM),扫描探针显微镜(SPM),摩擦磨损试验机,瓶盖扭矩测量仪,轴承扭矩测量仪,高频疲劳试验机。

亿诚恒达科技有限公司愿与客户携手,共创美好未来!

详细信息


CTS AP-200 CMP化学机械抛光机


主要技术参数:

- 抛光平台转速:0-200 rpm

- 抛光头载体转速:0-200 rpm

- 整理器转速:0-150 rpm

- 抛光液流速:20-500 cc/min

- 整理器下压力:2- 20 lbs

ap200_3.jpg

2. 工艺数据可实时监测;

ap200_4.jpg

3.多种抛光液 & 高压去离子水系统

- 内置两个共给抛光液的泵单元

- 抛光液材质:氧化物,钨,铜,二氧化铈等

- 流量:20?500cc / min

- 双排喷嘴排列布置,具有高压清洁效果

- 通过各种不同喷嘴角度,更干净的清洗抛光垫

CTS AP-200 CMP化学机械抛光机



应用领域:

- ILD(层间电介质)CMP,IMD(金属间电介质)CMP,氧化物CMP,多晶硅CMP,钨CMP,铜CMP

- 半导体CMP 工序(Semiconductor CMP)

- MEMS CMP

- 高校及科研院所高品质科研测试(University, Lab _High Quality Performance Test

- 晶片研磨代工企业(Wafer Polishing Service

- CMP耗材研发企业(CMP Consumable Parts),CMP抛光液,金刚石研磨垫整理器,CMP研磨垫


售后服务

  • 免费上门安装:是

  • 保修期:1年

  • 是否可延长保修期:是

  • 保内维修承诺:设备保修期内不收取零部件及其它费用,实行保修服务。并提供设备终身售后服务

  • 报修承诺:接到用户通知后,2小时内做出响应,24小时内给出明确解决方案

  • 免费仪器保养:用户使用半年后,将安排一次应用培训以使用户达到熟练使用设备程度

  • 免费培训:3人次现场培训

  • 现场技术咨询:有


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