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Leica EM ACE200 徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200

型号
Leica EM ACE200

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详细信息

徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200概述
样品进行扫描电镜观察前,通常需要对其表面镀一层金属膜,以便减少观察时产生的荷电,并增强二次电子或背散射电子信号,获得更好的信噪比。
Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制,自动完成抽真空、镀膜、放气等全过程,一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制,简单方便。
徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200性能
 • *重现结果:运行自动化的进程,并协助参数设置
 • 小巧紧凑:设计紧凑,占地面积小节省了实验室空间
 • 容易清洗:具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台
 • 操作简便:直观的触摸屏和一键式操作
技术参数
 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,
可选辉光放电(用于网格表面亲水化)
 设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度
 可选石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm
 全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程
 触摸屏控制,简单方便
 真空度≤7x10-3mbar
 溅射电流:0-150mA可调
 方形样品仓设计,样品仓尺寸:140mm(宽)x145mm(深)x150mm(高)
 工作距离调节范围:30-100mm

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