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Minilock-Phantom III ICP 等离子刻蚀ICP
- 型号
- Minilock-Phantom III ICP
- 参数
- 产地类别:进口
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半导体仪器和电子产品耗材耗材
FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料学博士共同创办的德国公司。基于 “Science is international”的想法，“全球协同实验室”成为三位博士追逐的梦想。
公司愿景是从科学家到科学家，科学开创美好未来。
FIRSTNANO深耕于半导体技术、材料科学、生命科学等科研领域，始终秉承“前沿、专业、科学”的宗旨，将前沿技术引进到协同实验室。我们的产品覆盖了微纳加工制程；材料科学的检测、分析；生命科学成像，脑科学与行为认知等相关领域。作为全球科技前沿的仪器供应商，FIRSTNANO具有全球技术视野、优质供应体系、以及严格的质量管控系统，能为客户提供前沿的技术解决方案。
公司服务的客户领域广泛，其中包括消费电子、航空、航天、医药技术、半导体行业、光电子行业、高校和研究机构。
在成长的过程中，我们脚踏实地、奋勇向前。自2015年香港（中华区）公司成立以来，我们一相继在香港、深圳、上海和武汉设立了分支机构。
我们真诚邀请业内英才加入FIRSTNANO TEAM，一起为梦想扬帆起航！
详细信息
系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。该反应室还可以用于去除光刻胶和有机材料。可选配静电吸盘(E-chuck)，以便更有效地在刻蚀工艺中让基片保持冷却。该E-chuck使用氦压力控制器，及在基片背面保持一个氦冷却层，从而达到控制基片温度的作用。
该设备可选配一个电感耦合等离子(ICP)源，其使得用户可以创建高密度等离子，从而提高刻蚀速率和各向异性等刻蚀性能。
基片通过预真空室装入。其避免与工艺室以及任意残余刻蚀副产品接触，从而提高了用户安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下，从而隔绝外部湿气，防止反应室内可能发生的腐蚀。
