TSV1300真空镀膜机应用范围： 
　　该设备采用e型电子枪蒸发源，可蒸发各种高熔点金属和氧化物，可在玻璃，塑料，陶瓷基体上镀制各种多层薄膜，如：红外膜，宽带增透膜，分光膜，冷光膜，IR-CUT膜，干涉截止滤光片，偏振膜，电学膜，适用于眼镜，光学镜头，精密光学元件，激光和电子行业的大规模工业生产。 

TSV1300真空镀膜机主要特点： 
　　1电子枪输出功率稳定，特殊结构设计有效杜绝二次电子的产生和电子枪打火。 
　　2转动采用磁流体引入，*运转密封可靠。 
　　3工件转动座多重水冷和重力导向设计，运转平稳可靠，径向和轴向跳动3-5mm. 
　　4采用PLC＋触摸屏控制，多重泵阀水电互锁互保护，可全程自动控制，包括真空系统，烘烤系统，整个蒸发镀膜过程。 
　　5安装采用全程四极质谱监控和氦质谱检漏，真空密封性好，设备工艺稳定可靠。 
　　6所有零部件采用国内厂家，电器元件采用进口或合资企业产品，设备24小时连续*运行可靠稳定。 
　　基本参数： 
　　1.立式前开门结构，不锈钢真空室Φ1300X1500mm 
　　2.极限真空：1×10-4Pa（空载清洁真空系统，300°烘烤后） 
　　3.恢复真空时间：大气至4×10-3Pa≤15min. 
　　4.大抽速主泵，KT-630型扩散泵（18000L/s）两台，配备防湍流装置。 
　　5.工件转动：采用磁流体密封转动装置，转动座多重水冷和重力导向设计，运转平稳可靠。 
　　6.工件烘烤：桶状上烘烤，三点控温，**烘烤温度350°。 
　　7.永磁E型电子枪，枪功率10KW/支；可配置单枪或双枪，多穴坩埚和环形坩埚。 
　　8.配备美国Inficon公司生产的SQC310C　或IC6型石英晶体膜厚控制仪。 
　　9.10英寸触摸屏和欧姆龙（PLC）编程控制器，对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、膜厚监控系统等进行监测和控制，可采用自动和手动两种模式。 
　　10.可选配Φ16CM的离子源或深冷低温冷阱。