蒸发镀膜仪是一种用于在真空环境中通过物理气相沉积技术制备薄膜的设备。它主要用于在各种基材上沉积一层或多层薄膜，广泛应用于电子、光学、材料科学等领域。
蒸发镀膜仪是一种用于在基底上制备均匀材料薄膜的设备，通过物理方法产生薄膜材料。其工作原理主要是利用加热源(如电子束或电阻加热)将材料加热至高温，使其蒸发并沉积在基底表面上，形成所需的薄膜。
工作原理
蒸发镀膜仪的工作原理基于物理气相沉积(PVD)技术。具体过程包括以下几个步骤：
真空环境：使用真空泵将蒸发室内的气体抽出，创造一个高真空环境，以避免材料在蒸发过程中与气体反应。
蒸发源：将待镀材料放置在蒸发源(如钨舟或电子束加热器)上，通过电阻加热、电子束加热等方式使材料蒸发。
沉积：蒸发的材料在基片上沉积，形成所需的薄膜。
特点：
电子束加热比电阻加热具有更高的通量密度，可以蒸发高熔点材料，如W、Mo、Al2O3等，并可得到较高的蒸发速率。
被蒸发材料置于水冷铜坩埚内，真空蒸发镀膜机可避免坩埚材料污染，可制备高纯薄膜。
电子束蒸发粒子动能大，有利于获得致密、结合力好的膜层。
综上所述，蒸发镀膜仪是一种重要的薄膜制备设备，在多个领域都有广泛的应用。在选购和维护时，需要充分考虑实际需求和预算。
