起订量:
Film Sense FS-1 FS-1单波长椭偏仪
Film Sense FS-1多波长椭偏仪采用寿命长 LED 光源和非移动 式部件椭偏探测器,可在操作简单的紧凑型椭偏仪中实现快速和可 靠地薄膜测量。
大多数厚度 0–1000 nm 的透明薄膜只需要简单的 1 秒测量,就 可以获得非常精密和的数据。还可以测量大多数样品的光学常 数和其他薄膜特性。
Film Sense FS-1多波长椭偏仪 这款功能强大的多波长椭偏仪,售价只是单一波长椭偏仪
和光谱椭偏仪的中等水平。FS-1 可应用于研究实验室,超净间,原位工艺腔体以及工业质量控制等诸多领域
主要特点
4 个 LED 光源:蓝色(465nm),绿色(525nm), 黄色(580nm),红色(635nm)
椭偏仪探测器中无可移动部件
的膜厚精密性,大多数样品精密度优于 0.001nm(1 秒获取数据),对于亚单原子薄膜精密度等于0.001nm
集成计算机,可实现对设备控制和数据分析,自带 浏览器界面,可兼容任何现代计算机,笔记本或平 板电脑
优势
寿命长(长达 50,000 小时),更换 LED 灯便宜,校准时 间短或无需 PM 程序
快速测量(10ms 内获得多波长数据)和性能稳定
测量,只有椭偏仪可以实现
软件设置和维护简单
标准 FS-1 配置
65°入射角
手动放置样品和调节高度
样品尺寸大直径 200mm 和厚度 23mm
样品偏转范围+/-20
样品上光束尺寸 5 x 12 mm
结构紧凑(180 x 400 mm) 和轻巧(4.8 kg)
性能
FS-1 多波长椭偏仪擅长测量膜厚范围 0-1000nm 的透明单一薄 膜的厚度和折射率。下表列出的是针对各种不同样品,包括多 层膜样品,FS-1 获得的标准测量精密度和性数据。
应用领域
半导体行业:二氧化硅和氮化物,高介电和低介电 材料,非晶和多晶材料,硅薄膜,光刻胶
光学薄膜行业:高和低指数薄膜,如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 等
显示屏行业:TCO(如 ITO),非晶硅薄膜,有机薄 膜(OLED 技术)
数据存储行业:宝石,如碳膜
工艺研发:原位表征薄膜沉积(速率和光学常数) VS 工艺条件,可兼容 MBE, MOCVD, ALD 和磁控溅射 等设备
化学和生物:在液体细胞实验中探测亚单原子层材 料吸附
工业:在线监测和控制膜厚
In Situ 在线测量功能
亚单原子膜厚精密度
多工艺条件下测定薄膜光学常数 n&k 和沉积速率,不 会破坏真空
监测和控制多层膜结构沉积
FS-API 界面,外置软件控制(兼容 LabVIEW )
兼容大多数薄膜沉积技术:磁控溅射,ALD,MBE,MOCVD,电子束蒸发等
In Situ 在线测量
产品包括 FS-1多波长椭偏仪,带紧凑自动 mapping 样品 台,可以实现快速,和可靠的薄膜均匀性测量。
特点和参数
4 段波长的椭偏数据(465, 525, 580, 635 nm),寿命长 的 LED 光源,探测器内无可移动部件
可对 0-1000nm 透明薄膜进行的厚度测量
标准浓厚重复性 0.015 nm
集成聚焦探针,标准光斑尺寸 0.8 x 1.9 mm (其他尺寸 可选)
电动 Z 轴样品台自动准直
灵活扫描图案编辑器
测量参数等值线绘制
聚焦光束选件
样品上光束尺寸减小到 0.8 x 1.9 mm 或 0.3 x 0.7 mm
聚焦光束检测
聚焦光束检测系统包括一个 FS-1 多波长椭偏仪,带光束聚焦光学器件和一个手动位移台。该系统 非常适合用于手动检测和在图案化半导体晶圆上 进行质量控制测量。
可进行科研测量,带小尺寸光斑和相机成像功能
手动位移台,可容纳 4’,5’,6’晶圆
样品上光束尺寸 0.3 x 0.7 mm
样品上光束位置视频图像
FS-XY150
标准晶圆 map 时间:60s(150mm 晶圆上取 49 个点)
结构紧凑:600x600 mm, 16 kg
样品台行程(X,Y):150 x 150 mm, 精度:5 μm
FS-RT300
标准晶圆 map 时间:90s(300mm 晶圆上取 49 个点)
结构紧凑:400x500 mm, 22 kg
样品台行程:R (线性) :150 mm, 精度:12 μm
角度(旋转)360°,精度:0.1°