TESCAN GAIA3电镜系统完美的集成了超高分辨率的电子光学系统和高性能的离子束系统，二者配置于同一样品室上。GAIA3电镜以MAIA3场发射扫描电镜为平台，在保留MAIA3*性能的基础上，增加了使用聚焦离子束进行样品表面处理的功能。GAIA3具有创新性的场发射电镜设计，低电压下仍具有出色的分辨率，大大提高了其成像能力。与一般电镜的电磁物镜相比，GAIA3具有较窄小的电磁物镜，同时InBeam-SE探头和InBeam-BSE探头的位置都位于透镜内，这些设计都为FIB及其他分析设备提供了充足空间，使之能够在样品表面完成多项工作。

GAIA3的突出特点

·单极60°电磁物镜设计，的SEM分辨率

·的多种成像模式—大视场模式，分辨率模式以及景深模式—这些功能都基于TESCAN*的大视场光学系统设计

·马达控制的精准样品台，可进行精确的移动或倾转操作

·Field-free模式下可对磁性样品进行有效观察

·高达200nA的束流强度

·停留时间低至20ns的快速电子束刻蚀速度

·FIB的Cobra光学系统，确保聚焦离子束*的分辨率和优异的性能，离子束流为1pA到50nA

·强大的DrawBeam软件包，包含许多可编程设计模块（基础版和高级版）来实现扫描及制样等过程中可调参数的多样化

·不仅具有对样品表面进行修饰和观察的多种功能，完美的空间设计还能够使电镜通过接口兼容多种探测设备与技术手段，且还能保持一致的较佳分析工作距离

GAIA3-- 场发射扫描电镜的功能特点

对纳米尺度物质的成像分析及控制，是当今顺利开展研究工作的关键，这要求前沿的技术手段具有分辨率、准确度、可重复性、稳定性以及灵活性等多方面的优异性能。

在前几代电镜系统的成功基础上，TESCAN推出了GAIA3新一代电镜系统。它保持了SEM的纳米级分辨率特征，同时还集成了*的COBRA-FIB聚焦离子束功能，使新一代GAIA3电镜拥有更加多元化的分析设备兼容性，提高了分析范围和分析能力。

GAIA3-- 场发射扫描电镜的一个突出优点在于它低电压下的扫描电子成像功能，分辨率很高。这对于研究电子敏感材料或是导电性差的样品极为重要，低电压可以降低电子与材料相互作用，从而保证好的分辨率同时还能获得好的低电压衬度。

COBRA-FIB聚焦离子束系统是一项l较好技术，不论成像拍照还是样品微观加工，都能保持很高的尺寸分辨率，是纳米工程领域较佳的FIB设备。