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BTF-1200C-RP-PECVD 连续回转PECVD系统
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生产厂家安徽贝意克设备技术有限公司成立于2012年,基地位于安徽合肥,是一家集新材料设备研发、生产、销售与技术服务于一体的高科技企业。
公司重视技术攻关和产品研发,建有超卓的产品研发中心,拥有一支由多名博士硕士组成的专业研发队伍,累计获得patent200余项。并通过产学研合作,与北京大学南开大学等多所院校建立联合实验室及研究生联合培养基地
公司专注于新材料装备工艺开发及装备制造,产品门类涵盖了OLED材料提纯专用设备系列、碳材料制备设备系列、半导体专用设备系列及金属纳米颗粒设备系列四大类共十余个子类,与众多材料厂商、科研院校等保持长期合作关系,市场营销网络遍布全球各地。
连年来,公司相继被认定为“高新技术企业”“专精特新企业““科技小巨人培育企业”“石墨烯生长设备工程技术研究中心”“瞪羚企业”“雏鹰企业”,并接连获得“中国隐形独角兽500强”“科技创新奖”“创新创业奖”等多项荣誉。
技术参数
加热系统Heating system | |
功率 | 4KW |
电压 | AC220V 50/60Hz |
zui高温度 | 1200°C |
使用温度 | 1100°C |
加热长度 | 200mm+200mm |
恒温长度 | 250mm |
| 模糊PID控制和自整定调节 智能化30段可编程控制 超温和断偶报警功能 操作界面为10 "液晶触摸屏控制 |
控温精度 | +/- 1℃ |
炉管尺寸 | Size:Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm 尺寸:Φ60*420+Φ100*360+Φ60*420mm Furnace tube rotation rate:0~60r/min 炉管转速:0~60r/min |
Furnace body inclination angle | 0~35°(adjustable) |
Plasma系统 | |
本系统借助于辉光放电产生等离子体,辉光放电等离子体中,电子密度高,通过反应气态放电,有效利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式。 | T |
进料系统 | |
送料系统速度连续可调,停止送料且炉体倾斜zui大时,物料不会从送料系统外漏,送料系统方便拆卸,拆卸后可手动加料,设备可正常运行。 | T |
出料系统 | |
出料系统在炉体倾斜出料时可自动出料。) | |
气体控制系统 | |
该控气系统是可以控制两种气体按照不同流量进行混合配比的,也可以独立控制,质量流量计安装于密封的可移动的机柜内,由超洁双抛不锈钢管与精密双卡套接头连接组成。 | |
低真空系统 | |
该系统配备真空机械泵,可以抽真空,可以让设备在真空环境下进行反应。 | |
气料分离系统 | |
该系统可以让设备在充气体保护或者抽真空时,实现气体与物料的分离。 | |
过滤系统 | |
该系统可防止物料进入真空泵,保证真空泵的正常运行。 | |
炉管转动系统 | |
炉管转动系统可以让炉管360°匀速转动,转速在0-60r/min连续可调,且能在60r/min转速下长时间运行。 |