起订量：
SC1 CIF-Spin Processor
企业历程 :
◆ 2006 年，在美国加州洛杉矶注册成立赛福国际集团有限公司（CIF International Group Co.,Ltd）。成立之初是一 家面向大学科研院所销售仪器设备的供应商。
◆ 2008 年， 自主研发生产石墨电热板以来， 先后研发生产酸蒸逆流清洗器、酸纯化器、智能消解仪等理化实验仪器设备， 从此走上研发生产专业化道路。
◆ 2010 年，掌握了等离子核心技术，自主研发生产科研型等离子清洗机系列产品。
◆ 2014 年， 在中国注册成立华仪行（北京） 科技有限公司， 正式进入中国市场， 部分仪器设备研发、制造业务移至中国。
◆ 2015 年，自主研发生产专为处理粉体样品而设计转瓶等离子清洗机。
◆ 2017 年，自主研发生产紫外臭氧清洗机系列产品。
◆ 2018 年，在中国成注册立赛福仪器承德有限公司，将研发制造业务全部移至中国。
◆ 2019 年，电镜专用远程等离子清洗机研发成功。
◆ 2021 年，自主研发生产中试、生产型等离子清洗系列产品，完善了等离子产品线。
◆ 2023 年，科研型等离子去胶机、RIE 蚀刻机研发成功。
公司专注材料表面处理技术：
◆ 改性（等离子清洗机、紫外臭氧清洗机） ◆ 去胶（等离子去胶机）
◆ 蚀刻（等离子刻蚀机） ◆ 涂层（等离子溅射镀膜机、匀胶机、烤胶机）
企业愿景：
致力于为全球用户提供专业的表面处理整体解决方案。
企业使命：
CIF与我们的员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人，同呼吸，共命运，共同成长，共同发展，共同成就梦想！
详细信息
Spin Processor旋涂匀胶机产品特点
v 采用闭环控制伺服电机，数字式增速信号反馈，速匀准确，寿命长，保证匀胶的均一性。
v 5寸全彩触摸屏，智能程序化可编程操控显示，标配10个匀胶梯度阶段（速度和时间梯度设置），可选配10个可编程程序，每个程序下可设置10个匀胶梯度阶段，z多100个阶段。
v 内置水平校准装置，大限度的保证旋涂均匀，可对大小不同规格的基片进行旋涂。
v 多重安全保护:
» 电磁安全开关，盖子打开卡盘停止，保证安全；
» 盖子自锁功能，防止飞片盖弹开伤人；
» 双重安全上盖，聚四氟嵌镶钢化玻璃，避免单一玻璃或者亚克力上盖飞片伤人，大限度保证实验人员安全。
v 样品托盘卡口和样品托盘之间三重密封安全保护，有效降低电机进胶的风险。
v 一机两用，根据不同样品可选真空吸盘和非真空卡盘两种旋涂方式。
v 符合人体功能学的水平取放样品旋涂托盘设计，取放样品更方便。
v 不锈钢喷塑涂层旋涂壳体，旋涂腔体采用PTFE材料。旋涂托盘采用聚丙烯（NPP-H）材料，耐酸碱防腐蚀，保证仪器在苛刻条件下仍能正常运行。
v 上下双腔体设计，较大的上腔体便于擦拭去除胶液，锥形下腔体结构设计便于收集胶液，并带废胶收集装置
v 可选氮气吹干、氮气保护，自动滴胶或简易滴胶装置，提供更多的操作便利性。
v 适用硅片、玻璃、石英、金属、GaAs，GaN，InP 等多种材料。
匀胶机是一种常见用于材料薄膜制备工艺的实验室设备，它的原理相对比较简单，利用电机高速旋转时所产生的离心力使得试液或者胶液均匀地涂敷在基底材料的表面，顾名思义，一种可以“让胶液均匀涂敷的机器”。匀胶机有很多称谓，匀胶台，旋转涂膜机，旋转涂层机或者旋转涂敷机等等，它的英文是Spin Processor：旋转涂膜的意思。
匀胶过程中基片的加速度也会对胶膜的性能产生影响。因为在基片旋转的阶段，光刻胶就开始干燥（溶剂挥发）了。所以准确控制加速度很重要。在一些匀胶过程中，光刻胶中50%的溶剂就在匀胶过程开始的几秒钟内挥发掉了。在已经光刻有图形的基片上匀胶，加速度对胶膜质量同样起重要作用。在许多情况下，基片上已经由前面工序留下来的精细图形。因此，在这样的基片上穿越这些图形均匀涂胶是重要的。匀胶过程总是对光刻胶产生离心力，而恰恰是加速度对光刻胶产生扭力（twisting force）,这个扭力使光刻胶在已有图形的周围散开，这样就可能以另一种方式用光刻胶覆盖基片上有图形的部分。
Spin Processor旋涂匀胶机技术参数
| 型号 | 转速（转/分） | 转速稳定度 | 匀胶时间 | 旋涂基片尺寸mm | 外型尺寸（LxWxH）mm |
| SC1 | 50-10000 | ±1％ | 0-2000秒 | 圆片Φ5-Φ100,方片z大100x100 | 310x260x250 |
