$item.Name
$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>匀胶机

spin coater匀胶机

型号
科睿设备有限公司

高级会员7年 

代理商

该企业相似产品

无掩膜光刻机, 激光直写系统

在线询价

负性光刻胶 (SU-8)-光刻机用

在线询价

纳米压印-光刻机

在线询价

激光直写无掩膜光刻机

在线询价

全自动光刻机

在线询价

纳米压印系统-光刻机

在线询价

mask aligner半自动光刻机

在线询价

硅穿孔工艺设备-光刻机

在线询价
光刻机,镀膜机,磁控溅射镀膜仪,电子束蒸发镀膜仪,开尔文探针系统(功函数测量),气溶胶设备,气溶胶粒径谱仪,等离子增强气相沉积系统(PECVD),原子层沉积系统(ALD),快速退火炉,气溶胶发生器,稀释器,滤料测试系统

科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化,为广大中国用户提供仪器、设备,周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国,纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域,都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代,我们愿意化为一座桥梁,见证中国科技水平的提升,与中国科技共同飞速成长。
      科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港,在中国上海设立了分公司,在国内多个城市设立了办事处或维修站,旨在为客户提供*的产品和服务。2010年,科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心,同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务,我们拥有专业的应用维修人员,并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件,能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应,72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务!
      因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统,主要用户包括:中科院物理所,中科院半导体所,中科院大连化学物理研究所,国家纳米中心,上海纳米中心,北京大学,清华大学,中国科技大学,南京大学,复旦大学,上海交通大学,华东理工大学,浙江大学,中山大学,西安交通大学,四川大学,中国工程物理研究院,香港大学,香港城市大学,香港中文大学,香港科技大学等。



详细信息

spin coater匀胶机

匀胶机有很多种称谓,英文叫Spin Coater或者Spin Processor,又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机,总的来说,他们原理都是一样的,既在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。
匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蚀中也被广泛使用。
由我司提供的匀胶机,在高校、研究所及半导体产业享有很高的声誉,相信能满足您多种不同应用要求。
产地:韩国MIDAS公司,
型号:SPIN-1200


匀胶机通用参数:
旋转衬底最大尺寸:4”、6”、8”、12”、550mm;
按客户需求提供整体解决方案,可以旋涂最小3mm, 最大1000mm衬底;
从手动到全自动溶质分配的选择范围宽大;
无振动转速最高8000rpm;
真空吸附,无污染;
台式匀胶机,占用空间小;
具备耐化学性的无缝聚丙烯外罩,并且匀胶机主机易清洗;
聚四氟乙烯(PTFE)的匀胶机可用于强腐蚀性化学材料;
便于程序操作的全尺寸键盘,甚至带着手套都可以方便使用;
可以准确重复运行程序的数字程序控制系统;
高度灵活的多重可编程步骤组成复合程序。


spin coater匀胶机应用范围:
可用于光刻胶(PR),聚酰亚胺(Polyimide),金属有机物(Metallo-organics),搀杂剂(Dopant),硅薄膜(Silica Film),以及大多数的有机溶液、水溶液;

全自动的匀胶及显影工艺必需的全自动Chip生产设备:



相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :