一般来说，匀胶转速快，时间长，膜厚就薄。影响匀胶旋涂仪旋涂薄膜厚度的因素可能有：
1.将胶液滴注在基底材料的表面。可以通过注射器喷嘴，将待涂覆的溶液或者胶液喷洒或者滴注到基底材料表面。滴注的胶液墨通常要要远远超过最终涂覆在表面的胶液量。
2.通过较快较短地加速，使基底材料的旋转速度，快速达到设定的期望的理想转速。
1.以设定恒定的速率和时长旋转基底，通过改变胶液的黏度力来改变薄膜的厚度。
4.以设定恒定的速率和时长旋转基底，通过胶液的挥发性来改变薄膜的厚度。
5.旋涂时间不变，通过改变旋转基底的速度，改变薄膜的厚度。
6.旋涂速度不变，通过改变基底旋转的时间，改变薄膜的厚度。
该设备在匀胶过程中基片的加速度也会对胶膜的性能产生影响。因为在基片旋转的阶段开始，光刻胶就开始干燥（溶剂挥发）了。所以准确控制加速度很重要。
