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AZ ® 300MIF AZ 400K Dev 光刻胶配套显影液
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- AZ ® 300MIF AZ 400K Dev
教学仪器仪表，实验室化学试剂，实验室用品耗材
武汉市洪山区莱博兹科学仪器经营部成立于2020年09月22日，注册地位于武汉市洪山区珞珈山大厦主楼15层1506室，法定代表人为高珍珍。经营范围包括网上销售：教学仪器仪表、五金产品、金属结构产品、办公用品、计算机及辅助设备、实验室化学试剂（不含有毒有害易燃易爆危险品）、实验室用品、塑料制品、实验室耗材；教学仪器仪表技术咨询服务。（涉及许可经营项目，应取得相关部门许可后方可经营）
详细信息
AZ ® 300MIF 为2.38％TMAH（四甲基氢氧化铵）
AZ 400K MIC基于缓冲的KOH，通常以1：4稀释度使用
AZ ® EBR溶剂
PGMEA = EBR溶剂（乙酸1-甲氧基-2-丙酯）
PGMEA为溶剂/稀释剂几乎所有AZ的® 和TI光致抗蚀剂，由于其低蒸汽压力和它在颗粒形成抑制（进一步稀释）抗蚀剂。另外，由于PGMEA的低蒸气压阻止了涂覆的抗蚀剂膜的进一步变薄，因此它通常用于去除边缘的珠粒。
AZ ® 100去胶液
是基于溶剂和胺。用于光致抗蚀剂具有低位进攻铝剥离。使用乙醇胺可降低危害。
低蒸发速率允许在高温（80°C）下使用，高效率（每升> 3000个晶片）有助于节省成本。不用担心铝的侵蚀，甚至可以用水稀释。
SU 8 Dev su8胶配套显影液
