可在基本的水显影剂中显影的负性光刻胶
 
特性
厚度范围：<0.1-120.0 µm
对波长小于380nm的灵敏度
优于表面拓扑的线宽控制
直侧壁适合任何膜厚
能够在单次旋涂中涂覆100 µm厚的膜
由于应用了150°C的软烘烤，烘烤时间更短（对于厚膜至关重要）
出色的光速，可提高曝光量
有助于提高RIE中的功率密度，从而提高蚀刻速率和蚀刻产量
消除使用粘合促进剂


  RIE /离子耐高温          厚度                           湿法蚀刻                           厚度
                                                                        增强附着力

    NR7-250P             0.2um-0.6um                     NR9-250P                       0.2um-0.6um
    NR7-1000P           0.7um-2.1um                     NR9-1000P                  0.7um-2.1um
    NR7-1500P           1.1um-3.1um                     NR9-1500P                  1.1um-3.1um
    NR7-3000P           2.1um-6.3um                     NR9-3000P                  2.1um-6.3um
    NR7-6000P           5.0um-12.2um                   NR9-6000P                  5.0um-12.2um
    NR5-8000             5.8um-100.0um                 NR9-8000P                  6.0μm-100um

耐温性= 150°C 在低于120°C的处理温           耐温性= 100°C。
度下可在25°C剥离NR5和NR7系列抗蚀剂        NR9系列抗蚀剂具有增强的附着力
                                                                                   在25°C时易于剥离。

Futurrex NR5-8000，4.5：1 AR
抗蚀剂分辨率的示例
膜厚度：54µm
掩模尺寸：12µm线/间隔
曝光剂量：1100 mJ / cm 2。
焦点偏移：-15µm。
曝光工具：Ultratech步进土星
模型，i-line

另有：NR9G     g和h线曝光用粘度增强 具有高粘附性适用于电镀及湿法蚀刻
           NR71G   g和h线曝光用于干法蚀刻中掩模应用并能作为隔层