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NR7-1500PY NR9-1500PY lift-off的负性光刻胶
- 型号
- NR7-1500PY NR9-1500PY
武汉市洪山区莱博兹科学仪器经营部成立于2020年09月22日，注册地位于武汉市洪山区珞珈山大厦主楼15层1506室，法定代表人为高珍珍。经营范围包括网上销售：教学仪器仪表、五金产品、金属结构产品、办公用品、计算机及辅助设备、实验室化学试剂（不含有毒有害易燃易爆危险品）、实验室用品、塑料制品、实验室耗材；教学仪器仪表技术咨询服务。（涉及许可经营项目，应取得相关部门许可后方可经营）
详细信息
用于lift-off的负性光刻胶
特性
抗蚀剂显影过程中形成抗蚀剂底切
厚度范围：0.7-25.0 µm
容易调整抗蚀剂底切程度与曝光能量的关系
对波长小于380nm的灵敏度
对生产力的影响
消除了对金属和电介质进行构图的干法蚀刻工艺
消除了对双层抗蚀剂的需求
应用领域
无需RIE即可进行单层剥离工艺以对金属和电介质进行图案化
设备的组件（例如垫片等）
适用于MEMS、封装、生物芯片
耐高温 厚度 增强附着力 厚 度
NR7-1000PY 0.7um-2.1um NR9-1000PY 0.7um-2.1um
NR7-1500PY 1.1um-3.1um NR9-1500PY 1.1um-3.1um
NR7-3000PY 2.1um-6.3um NR9-3000PY 2.1um-6.3um
NR7-6000PY 5.0um-12.2um NR9-6000PY 5.0um-12.2um
NR9-8000P 6.0μm-25.0μm
耐温性= 180°C 耐温性= 100°C
对于NR-PY型负性抗蚀剂，通过曝光剂量 NR9系列抗蚀剂具有增强的附着力
可以容易地控制底切程度。在低于120°C 在25°C时易于剥离
的处理温度下可在25°C剥离NR7系抗蚀剂
