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microArch S240 10μm高精度微纳3D打印
- 型号
- microArch S240
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摩方精密（BMF, Boston Micro Fabrication）是全球微尺度3D打印技术及精密加工能力解决方案提供商。专注于精密器件免除模具一次成型能力的研发，提供制造复杂三维微纳结构技术解决方案，同时，可结合不同材料及工艺，实现终端产品高效、低成本批量化生产及销售。
在科研领域，摩方自主研发的3D打印系统已被美国Hughes Research Laboratories 、麻省理工、新加坡南洋理工、英国诺丁汉、德国德累斯顿工大、清华、北大、上海交大、浙江大学、南京大学、北航、西交大、中科大、华中科大、港中文、港城大、阿联酋哈里发大学、丹麦科技大学、德国于利希研究中心等众多全球顶级高校和科研机构使用。
在工业领域，作为专注于高精密增材制造领域的企业，摩方公司已和众多全球500强企业开展业务合作，包括GE医疗、Merck、美国强生、日本电装、安费诺、3M、泰科、华为、立讯、中石油等，产品广泛应用于连接器、内窥镜、医疗器械、消费电子、包装和通讯等行业。
详细信息
一、产品介绍
microArch S240 10μm高精度微纳3D打印系统基于BMF摩方的技术⸺面投影微立体光刻技术（PµSL）构建，并融入了摩方自主开发的多项技术。摩方PµSL是一种微米级精度的3D光刻技术，这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用，使用滚刀快 速涂层技术大大降低每层打印的时间，并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。
*的薄膜滚刀涂层技术允许更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；
能够处理高达20000cps的高粘度树脂，从而生产出耐候性更强、功能更强大的零部件；
能够打印工业级复合聚合物和陶瓷光敏材料，包括与巴斯夫合作开发的全新功能工程材料。
二、系统性能
| 打印技术 PμSL | 光源 UV-LED | 波长 405nm |
| 打印材料 光敏树脂/陶瓷 | 输入数据文件格式 STL | 光学分辨率 10μm |
| 打印尺寸 100 × 100 × 75 mm | 层厚 10-40μm | 公差 +/- 25μm |
| 设备功率 3000W | 打印主机尺寸 650 x 700 x 790 mm | 打印机重量 350kg |
| 电压 220V | 认证证书 CE |
三、微纳3D打印系统打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
工业级复合聚合物，例如高粘度树脂、陶瓷浆料等。
个性化
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
四、产品优势
microArch S240 10μm高精度微纳3D打印系统是科研级3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，可以兼顾微尺度和宏观样件的打印，从而实现超高精度大幅面的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
