起订量:
Quattro 扫描场发射电镜
高级会员第5年
代理商北京欧波同光学技术有限公司成立于2003年,是一家材料分析数字化解决方案服务商。旗下拥有科学仪器、智慧实验室、第三方检测、技术服务等业务板块。欧波同坚持“让实验更简单”的发展主线,充分掌握计算机视觉和图像识别技术,实现AI技术和工业分析技术的跨界融合,帮助中国企业在竞争中取得成功。为世界材料分析贡献中国力量!
北京欧波同光学技术有限公司(OPTON)-主营进口扫描电子显微镜、双束聚焦离子束显微镜、赛默飞扫描电镜、场发射扫描电镜、聚焦离子束电镜、赛默飞双束电镜、FEI扫描电镜、FIB扫描电镜、FIB双束电镜、TEM透射电镜、球差电镜、氩离子抛光测试及制样设备中国区授权代理商
扫描场发射电镜简介:
为具有*环境真空功能的灵活、多功能高分辨率扫描电镜,可以将成像和分析全面性能与环境模式(ESEM)相结合,使得样品研究得以在自然状态下进行。
场发射电子枪(FEG)确保了优异的分辨率,通过不同的探测器选项,可以调节不同衬度信息,包括定向背散射、STEM和阴极荧光信息。来自多个多个探测器和探测器区分的图像可以同步采集和显示,使得单次扫描即可获得样品信息,从而降低电子束敏感样品的束曝光并实现真正额动态试验。Quattro的三种真空模式使得系统具有灵活性,可以容纳广泛的样品类型,无论样品导电、绝缘、潮湿或是在高温条件下,均可获得可靠的分析结果。Quattro*的硬件有用户向导支持,不仅可以指导操作者,还可以直接进行交换,轻松缩短结果获取时间。
扫描场发射电镜参数:
金属及合金、断口、焊点、抛光断面、磁性及超导材料
陶瓷、复合材料、塑料
薄膜/涂层
地质样品断面、矿物
软材料:聚合物、药物、滤膜、凝胶、生物组织、植物材料
颗粒、多孔材料、纤维
水合/脱水/湿润/接触角分析
结晶/相变
氧化/催化
材料生成
拉伸(伴随加热或冷却)
发射源:高稳定型肖特基场发射电子枪
分辨率:
型号 | Quattro C | Quattro S |
高真空 | ||
30kV(SE) | 1.0nm | |
1kV(SE) | 3.0nm | |
低真空 | ||
30kV(SE) | 1.3nm | |
3kV(SE) | 3.0nm | |
30kV(BSE) | 2.5nm | |
环境扫描模式 | ||
30kV(SE) | 1.3nm |
放大倍率:6 ~ 2,500,000×
加速电压范围:200V ~ 30kV
探针电流范围:1pA – 200nA,连续可调
X-Ray工作距离:10mm,EDS检出角35°
样品室:从左至右为340mm宽的大存储空间,样品室可拓展接口数量12个,含能谱仪接口3个(其中2个处于180°对角位置)
样品台和样品:
探测器系统:
同步检测多达四种信号,包括
样品室高真空二次电子探测器ETD
低真空二次电子探测器LVD
气体SED(GSED,用于环境扫描模式)
样品室内IR-CCD红外相机(观察样品台高度)
可用于样品导航的彩色光学相机Nav-Cam™
控制系统:
操作系统:64为GUI(Windows10)、键盘、光学鼠标
图像显示:24寸LCD显示器,WUXGA 1920×1200
定制化的图像用户界面,可同时激活多达4个视图
导航蒙太奇
软件支持Undo和Redo功能
特点与用途:
在自然状态下对材料进行预案为研究,具有环境真空模式(ESEM)的*高分辨率场发射扫描电镜;
缩短样品制备时间:低真空和环境真空技术可针对不导电和/或含水样品直接成像和分析,样品表面无荷电累积;
在各种操作模式下分析导电和不导电样品,同步获取二次电子像和背散射电子像;
优良的分析性能,样品仓可同时安装3三个EDS探测器,其中2个EDS端口分开180°、WDS和共勉EDS/EBSD;
针对不导电样品的分析性能:凭借“压差真空系统”实现低真空模式下的EDS和EBSD分析;
灵活、准确的优中心样品台,105°倾斜角度范围,可多方位观察样品;
软件直观、简便易用,并配置用户向导及Undo(撤销)功能,操作步骤减少,分析更快速;
全新创新选项,包括可伸缩RGB阴极荧光(CL)探测器、1100℃高真空热台和AutoScript。