$item.Name

首页>实验室常用设备>制样/消解设备>离子溅射仪

GVC-2000T 高真空磁控离子溅射仪

型号
GVC-2000T
参数
产地类别:国产 价格区间:面议 应用领域:环保,能源,电子,电气,综合 溅射电压:300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化 溅射电流:0-200mA连续可调,步长10mA 溅射时间:0-9999s,?连续可调步长1s 样品台直径:≥90mm 真空室:高硅硼玻璃,规格尺寸约φ170×130mm
北京格微仪器有限公司

高级会员4年 

生产厂家

该企业相似产品

磁控离子溅射仪

在线询价

GVC-2000磁控离子溅射仪

在线询价

GVC-2000磁控膜厚一体溅射仪

在线询价

手套箱专用磁控溅射仪

在线询价

全自动离子溅射仪

在线询价

磁控离子溅射仪

在线询价

磁控膜厚一体溅射仪

在线询价

手套箱镀电极专用磁控溅射仪

在线询价
离子溅射仪、热蒸发镀碳仪
  北京格微仪器有限公司长期致力于打造以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造,产品包括:磁控离子溅射仪,高真空磁控离子溅射仪,手套箱镀电极制备镀膜仪,微纳器件制备镀膜仪,高真空镀碳仪。公司总部位于北京海淀中关村,有多名多年从事真空技术、电子光学、离子光学、表面物理、材料制备等技术人员联合发起,团队全部为硕士以上学历或高级职称,具备专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验,在科研、产业等领域,沉浸多年,具备独立设计、项目承担、生产制造等综合能力。当前聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备,并在众多高校院所和产业单位得到青睐。

详细信息

没有热损伤,效率更高,颗粒度更细,更适合高分辨电镜。
高真空磁控离子溅射仪应用领域
1、高分辨扫描电镜样品制备(实际放大倍数≥100K)。
2、电极制备-可制备各种金属电极、ITO电极。

设备配置与技术参数

名称&型号高真空磁控离子溅射仪GVC-2000T
真空系统涡轮分子泵(进口 ):德国莱宝90i (单磁悬浮分子泵,抽速为90L/s)
旋片式真空泵:浙江飞越VRD-4 (抽速为 1 .1L/s)
真空测量全量程复合真空规(进口):丹麦Sens4 VPM-5
量程范围:1.0E5Pa-1E-4Pa
系统极限真空≤5E-3Pa
溅射电源磁控溅射电源,最大功率150W
可用靶材金、铂金、银、铜、铝、钛、镍、铁、钼、钨等金属靶材
溅射电压300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化
溅射电流0-200mA连续可调,步长10mA
溅射时间0-9999s, 连续可调步长1s
操作界面7英寸TFT彩色液晶触摸屏,分辨率800×480
抽气节拍<15分钟
控制方式只需设定溅射电流和时间即可,全自动控制
具备预溅射挡板(预溅射时间可设定),全自动控制
保护功能软硬件互锁、防止误操作,具备电流、真空保护等
样品台直径≥90mm
真空室高硅硼玻璃,规格尺寸约φ170×130mm
电源供电220V 50Hz 最大功率800W
尺寸&重量重量 420(长) ×330(深) ×450mm(高)、 25 kg (净重)
冷却方式风冷
选配样品台选择、膜厚控制、温度监测等

镀膜样品示例:

122061906c36ca32a9b2e13e61da5eb.jpg  fba6cd2f5d60a45183db763926d175b.jpg  c9fb76ad2cf3ff8680d8b4fd82352f1.jpg




相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

产地类别 国产
价格区间 面议
应用领域 环保,能源,电子,电气,综合
溅射电压 300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化
溅射电流 0-200mA连续可调,步长10mA
溅射时间 0-9999s,?连续可调步长1s
样品台直径 ≥90mm
真空室 高硅硼玻璃,规格尺寸约φ170×130mm
企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :