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GVC-2000T 高真空磁控离子溅射仪
高级会员第4年
生产厂家没有热损伤,效率更高,颗粒度更细,更适合高分辨电镜。
高真空磁控离子溅射仪应用领域
1、高分辨扫描电镜样品制备(实际放大倍数≥100K)。
2、电极制备-可制备各种金属电极、ITO电极。
设备配置与技术参数
名称&型号 | 高真空磁控离子溅射仪GVC-2000T |
真空系统 | 涡轮分子泵(进口 ):德国莱宝90i (单磁悬浮分子泵,抽速为90L/s) 旋片式真空泵:浙江飞越VRD-4 (抽速为 1 .1L/s) |
真空测量 | 全量程复合真空规(进口):丹麦Sens4 VPM-5 量程范围:1.0E5Pa-1E-4Pa |
系统极限真空 | ≤5E-3Pa |
溅射电源 | 磁控溅射电源,最大功率150W |
可用靶材 | 金、铂金、银、铜、铝、钛、镍、铁、钼、钨等金属靶材 |
溅射电压 | 300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化 |
溅射电流 | 0-200mA连续可调,步长10mA |
溅射时间 | 0-9999s, 连续可调步长1s |
操作界面 | 7英寸TFT彩色液晶触摸屏,分辨率800×480 |
抽气节拍 | <15分钟 |
控制方式 | 只需设定溅射电流和时间即可,全自动控制 具备预溅射挡板(预溅射时间可设定),全自动控制 |
保护功能 | 软硬件互锁、防止误操作,具备电流、真空保护等 |
样品台直径 | ≥90mm |
真空室 | 高硅硼玻璃,规格尺寸约φ170×130mm |
电源供电 | 220V 50Hz 最大功率800W |
尺寸&重量 | 重量 420(长) ×330(深) ×450mm(高)、 25 kg (净重) |
冷却方式 | 风冷 |
选配 | 样品台选择、膜厚控制、温度监测等 |
镀膜样品示例:
产地类别 | 国产 |
价格区间 | 面议 |
应用领域 | 环保,能源,电子,电气,综合 |
溅射电压 | 300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化 |
溅射电流 | 0-200mA连续可调,步长10mA |
溅射时间 | 0-9999s,?连续可调步长1s |
样品台直径 | ≥90mm |
真空室 | 高硅硼玻璃,规格尺寸约φ170×130mm |