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GVC-1000 全自动离子溅射仪
- 型号
- GVC-1000
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离子溅射仪、热蒸发镀碳仪
北京格微仪器有限公司长期致力于打造以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造，产品包括：磁控离子溅射仪，高真空磁控离子溅射仪，手套箱镀电极制备镀膜仪，微纳器件制备镀膜仪，高真空镀碳仪。公司总部位于北京海淀中关村，有多名多年从事真空技术、电子光学、离子光学、表面物理、材料制备等技术人员联合发起，团队全部为硕士以上学历或高级职称，具备专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验，在科研、产业等领域，沉浸多年，具备独立设计、项目承担、生产制造等综合能力。当前聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备，并在众多高校院所和产业单位得到青睐。
详细信息
全自动离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择，以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。在结构设计及人机界面方面更加注重人性，简单智能。
对于SEM样品常规适用黄金溅射，GVC-1000提供了一个低成本的解决方案，同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层。同时通过智能的人机界面精确、简单、方便控制仪器，同时具有估算镀层厚度，实时显示真空度，溅射电流。设定溅射时间。以及靶材的剩余情况。
GVC-1000特点：
1、全自动操作，简单易用，非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等。
(1)溅射电流自动调整——设定溅射电流后，系统自动调节真空度，从而达到设定的溅射电流，调整时间＜5s，波动范围＜±5%；无需按“实验”键调整溅射电流、无需操作“进气阀”；
(2)溅射时间自动记忆——同类样品一次设定即可；
(3)参数改变自动调整——溅射过程中可以随时调整溅射电流和溅射时长，系统自动计算叠加，无需终止溅射过程；
(4)工作完成自动放气；
(5)样品台高度调节1秒完成；
(6)溅射过程可以利用曲线显示，清晰直观。
2、软硬件互锁，防误操作，安全可靠。
(1)真空度高于100Pa，启动真空保护，无法溅射；
(2)溅射电流高于50mA，停止溅射过程；
(3)真空泵工作时，系统无法进行放气操作。
3、镀层均匀，导电性良好。
GVC-1000全自动离子溅射仪是专用于扫描电镜（SEM）的样品喷金仪器,能够极为有效的提供样品的导电性及导热性,确保恒沉积速率,减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤.显著提供扫描电镜观测结果。
