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VTC-600GD高真空磁控溅射仪
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生产厂家沈阳科晶立足国内市场实际情况,以提供Z为实用的产品为己任。产品的质量、精度在向国外企业看齐的基础上,产品的价格定位却仅仅是其几分之一。性价比不仅吸引了众多国内客户,而且令挑剔的外国客商也称赞不已,产品远销于印度、马来西亚、土耳其、波兰、突尼斯、澳大利亚等国家,并大量出口于美国。
沈阳科晶为了更好地服务客户,专门设立了开放式专业实验室,配备了优秀的专业技术人员。在这里,不仅可以提供亲身的产品体验环境,而且还可得到专业人员的操作指导。开设以来,制作的样品达上千件,接待来访客参观户百余次,其中包括多次外国友人的来访。在此,沈阳科晶全体员工诚挚地欢迎您的到来,并希望您能提出宝贵的意见与建议。
沈阳科晶一路走过的历程,是为我国材料研究事业全力贡献的历程,是以实际行动将自己打造成国内材料分析设备品牌的历程,是与国外同行不断缩小差距的历程,是与广大客户相扶相持的成长历程。虽一路充满坎坷与荆棘,但坚持不懈的沈阳科晶人仍全力以赴的前行。秉承这份坚持,相信在不久的将来,沈阳科晶也将会成为市场上专业的、杰出的材料分析设备品牌,沈阳科晶的明天会更加灿烂辉煌。
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VTC-600GD高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控溅射仪至多可选配四个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
至多可选配四个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。
可制备多种薄膜,应用广泛。
体积小,操作简便。
整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。
可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。
产品名称 | VTC-600GD高真空磁控溅射仪 | |
产品型号 | VTC-600GD | |
安装条件 | 本设备要求在温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水) 2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地 3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀 4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通风装置:需要 | |
主要参数 | 1、电源电压:220V 50Hz 2、总功率:<3.5KW 3、腔体内径:Ø300mm 4、极限真空8.0x10-5Pa 5、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度) 6、靶枪数量:4个 7、靶枪冷却方式:水冷 8、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同) 9、直流溅射功率:500W(可选) 10、射频溅射功率:300W 11、载样台:Ø140mm 12、载样台转速:1rpm-20rpm内可调 13、保护气体:Ar、N2等惰性气体 14、进气气路:质量流量计控制2路进气,1个流量为100 SCCM,1个流量为200 SCCM | |
产品规格 | ·尺寸: 主机尺寸:850mm×760mm×660mm,整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm; ·重量:190kg |
序号 | 名称 | 数量 | 图片链接 |
1 | 直流电源控制系统 | (可选)套 | - |
2 | 射频电源控制系统 | 1套 | - |
3 | 膜厚监测仪系统 | 1套 | - |
4 | 分子泵 | 1台 | - |
5 | 冷水机 | 1台 | - |
6 | 聚酯PU管(Ø6mm) | 4m | - |
序号 | 名称 | 功能类别 | 图片链接 |
1 | 金、铟、银、铂等各种靶材 | (可选) | - |
2 | 可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜 | (可选) | - |