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Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统
微纳3D打印设备
德国Nansocribe全资子公司 -
德国Nanoscribe成立于2007年，总部位于德国卡尔斯鲁厄，于2017年在中国上海成立分公司 - 纳糯三维科技(上海)有限公司。作为Nanoscribe在中国全资子公司，其加强了德国的新技术在中国的销售推广；在巩固并扩大现有业务关系的同时，进一步扩大了在整个亚太地区客户服务范围，负责系统的安装，维护，以及相关培训任务。分公司新建立的亚太实验室可供客户参观和学习。
目前，超过30个国家，1500名用户正在使用Nanoscribe设备。排名*的大学里已经有六所购买了Nanoscribe打印设备，这些大学包含哈佛大学、加州理工学院、牛津大学、伦敦帝国理工学院和苏黎世联邦理工学院、斯坦福大学等等。
Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列是目前*的打印精度zui高的3D打印机。跟传统的以激光立体光刻为代表的高精3D打印机相比，利用双光子聚合技术原理的Photonic Professional GT系列能够轻松打印出精细结构分辨率高出100倍的三维微纳器件。
不管是在科研领域还是在工业界，双光子加工都被认为是非常具有应用前景的精细加工技术之一。作为市面上双光子加工技术的翘楚，Nanoscribe 系列微纳加工打印系统提供了全智能的软件操作界面以及标准化3D作业流程，能够实现多种材料的增材制造。Nanoscribe帮助推动着诸如力学超材料、激光快速成型，微纳机器人，再生医学工程，微纳光学，微机电以及等离激元等多个创新领域的研究。
详细信息
作为同类中超前的3D打印系统
Quantum X shape 可打印任何形状，最小尺寸可达100nm同时表面粗造度(Ra)小于5nm，最大面积可达25 cm
具备自动滴胶模组功能的打印系统，过夜效率可达200个特征结构。
通用高性能双光子聚合材料，适用高分子及玻璃打印。
Reshaping precision.
作为已被工业界认可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平台的二代加工系统，Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统在3D微纳加工领域拥有惊人的高精度，比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有赖于其最高能力的体素调制比和超精细处理网格，从而实现亚体素的尺寸控制。此外，受益于双光子灰度光刻对体素的微调，该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑，同时保持高精度的形状控制。
Reshaping output.
Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统不仅是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具，同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具。
Reshaping usability.
通过系统集成触控屏控制打印文件来大大提高实用性。通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置，实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产。
主要特征：
* 纳米尺度打印：在任意空间方向上的特征尺度控制，可达100nm
* 超快体素控制和100nm处理网格的高速3D微纳加工
* 振镜轨道控制保证的最快扫描速度下的轨迹准确度
* 自动化自校准路径保证的高精度激光能量控制及定位
* 可达6英寸基片和硅片的广泛选择
* 工业化批量生产： 200个标准介观尺度结构通宵产量
* 保证实用性和体验感的触控屏和远程控制功能
* 快速原型制作，高精度，高设计自由度，简易明了的工作流程
* 工业验证的晶圆级批量生产
* 通用及专用的打印材料
* 兼容自主及第三方打印材料
