$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>纳米压印设备

EVG610 纳米压印光刻系统

型号
EVG610
岱美仪器技术服务(上海)有限公司

高级会员5年 

代理商

该企业相似产品

多功能紫外纳米压印光刻系统

在线询价

自动化SmartNIL紫外纳米压印光刻系统

在线询价

掩模对准光刻系统

在线询价

掩模对准光刻机系统

在线询价
膜厚仪,轮廓仪,EVG键合机,EVG光刻机,HERZ隔震台,Microsense电容式位移传感器

岱美仪器技术服务(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,下面简称岱美)成立于1989年,是一间拥有多年经验的高科技设备分销商,主要为数据存储、半导体、光通讯、高校及研发中心提供各类测量设备、工序设备以及相应的技术支持,并与一些重要的客户建立了长期合作的关系。自1989年创立至今,岱美的产品以及各类服务、解决方案广泛地运用于中国香港,中国大陆(上海、东莞、北京),中国台湾,泰国,菲律宾,马来西亚,越南及新加坡等地区。


岱美在中国大陆地区主要销售或提供技术支持的产品:

晶圆键合机、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、光学三维轮廓仪、硅穿孔TSV量测、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、主动及被动式防震台系统、应力检测仪、电容式位移传感器、定心仪等。


岱美重要合作伙伴包括有:

Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,

n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...


如有需要,请联系我们,了解我们如何开始与您之间的合作,实现您的企业或者组织机构长期发展的目标。




详细信息

该设备支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并可选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻(NIL)。

EVG610提供快速的处理和重新安装工具,以改变用户需求,光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

对于压印工艺,EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到直径150毫米不等。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外,还可以包括印章的释放机制。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力,以实现高产量的压印,该卡盘设计既支持软印章也支持硬印章。

纳米压印机技术数据:
晶圆直径 (基板尺寸)
标准光刻 碎片蕞大150毫米
柔软的UV-NIL 蕞大150毫米的碎片
解析度 ≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程 柔软的UV-NIL
曝光源 汞光源或紫外线LED光源
自动分离功能 不支持
工作印章制作 外部
 
纳米压印机特征:
1) 顶部和底部对准能力
2) 高精度对准台
3) 自动楔形误差补偿机制
4) 电动和配方控制的曝光间隙
5) 支持新的UV-LED技术
6) 蕞小化系统占地面积和设施要求
7) 分步流程指导
8) 远程技术支持
9) 多用户概念(无限数量的用户帐户和配方,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
10) 敏捷处理和光刻工艺之间的转换
11) 台式或带防震花岗岩台的单机版

纳米压印机主要应用:
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,支持尺寸从碎片到蕞大150毫米。
附加功能:
1) 键对准
2) 红外对中
3) 纳米压印光刻
4) 微接触印刷
纳米压印工艺结果:

图1  微镜头

图2  纳米压印结果(100纳米分辨率)


 

相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :