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PLUTO-MD(8L) 小型等离子去胶机厂家
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- PLUTO-MD(8L)
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上海沛沅仪器是一家集等离子体技术设计、制造、产品开发、销售与服务于一体的技术型企业，公司致力于提供专业的等离子表面处理系统，比如等离子清洗机，等离子去胶机，等离子刻蚀机，实验室等离子处理机等，向用户提供国内等离子表面处理设备和优质专业的服务。
公司技术团队67%以上具备硕士或硕士以上学位，公司由长期从事等离子体应用技术研究开发、多次参与国家重大科学工程研究的专家和产业化专家联合创建，提供一系列等离子体表面处理系统、等离子体刻蚀系统、常压等离子清洗设备等，并与中科院上海应用物理研究所，复旦大学，中国科技大学，上海科技大学，上海交通大学等建立了密切的技术合作交流关系。
公司的愿景是成为等离子体应用领域的优质供应企业，用科研的沉淀和应用的创新，为中国的制造业崛起和化战略贡献一份力量。
详细信息
PLUTO-MD(8L)小型等离子去胶机介绍：
去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程，在电子束曝光，紫外曝光等微纳米加工工艺后，都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净对样片是否有损伤等问题，将直接影响后续工艺的顺利完成。PLUTO-MD使用性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、EMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。
PLUTO-MD(8L)小型等离子去胶机特点：
1. 桌面型，普通实验台即可安置。操作简便上手快、使用成本极低、易于维护。
2.适合于4~6寸硅片及相同面积去胶，可选配硅片专用托盘。
3.内置双层气浴电极，有效提高清洗效率。配有节流阀，防止真空泵油雾回流。可选配耐用电极，降低长时间使用后的腔体污染。
4.配置200W/13.56MHz等离子发生器。兼顾物理作用和化学作用。
5.具备前后吹扫功能，保证样品处理洁净度，可配置独立吹扫气路。
6.可选配电极间距可调，对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和表面改性。
PLUTO-MD(8L)小型等离子去胶机参数：
小型等离子去胶机应用：
