一、产品概述：

工业显微镜是一种用于观察和分析材料表面及内部结构的精密光学仪器。它广泛应用于材料科学、电子制造和质量控制等领域，能够提供高倍放大率和清晰的图像，以帮助用户进行细致的观察和检测。

二、设备用途/原理：

·设备用途

工业显微镜主要用于金属、塑料、陶瓷等材料的表面缺陷检测、微观结构分析以及焊接接头的质量评估。它还被广泛应用于电子元件的检查和故障分析，确保产品的质量和可靠性。

·工作原理

工业显微镜通过光学系统将样品的微小细节放大，使用高分辨率的镜头和照明系统，使得用户能够清晰地观察到样品的微观结构。显微镜通常配备有多种放大倍率和照明模式，能够适应不同类型的样品和检测需求。通过观察放大的图像，用户可以进行详细的分析和记录，为后续的研究和质量控制提供依据。

三、主要技术指标：

1. 支持通过光学显微镜或图像测量仪（如Nikon NEXIV），对直径为6英寸（150mm）和8英寸（200mm）的半导体晶圆的创新设计和材料进行全面检测

2. 良好的半导体晶圆装载机系列，能够将直径为6英寸（150mm）和8英寸（200mm）的晶圆转移到厚度为100微米（工厂制造选项）的尼康Eclipse L200N和LV150N显微镜或NEXIV VMZ-S视频测量仪器上

3. NWL200系列与尼康NEXIV影像测量仪器集成在一起，可在半导体生产和检测过程中快速提供全精度和准确度

支持半导体晶圆图案侧、后周边和中心区域检测。可自动或手动设置晶圆旋转速度和倾斜角度