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熱蒸鍍設備
北京瑞科中仪科技有限公司专注半导体材料研究分析设备的研发和应用。专业的团队,专精的服务,提供理想的解决方案。
我们长期专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理,为高校、企业科研工作者提供专业的分析解决方案。以专业技能为导向,用科技来解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流,打消顾虑,彼此协作,为我国的科研领域谱写新篇章。
北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备,其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。
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熱蒸鍍設備
熱蒸發製程是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積(PVD)。將材料(金屬或者有機材料等)置於真空環境中的電阻熱源中,使其加熱並蒸發,以最直接的方式蒸發到基板上,然後在基板上凝結成固態形成薄膜。熱蒸發比濺鍍提供更快的蒸發速率,但是,其容納材料的舟或坩堝尺寸有限,並且難以控制其蒸發速率。該方法通常用於小規模同時控制多組電阻熱源來沉積電極,如單層薄膜或共蒸發薄膜。
熱蒸鍍設備
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