GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪-化工仪器网-手机站

　　北京格微仪器有限公司长期致力于打造以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造，产品包括：磁控离子溅射仪，高真空磁控离子溅射仪，手套箱镀电极制备镀膜仪，微纳器件制备镀膜仪，高真空镀碳仪。公司总部位于北京海淀中关村，有多名多年从事真空技术、电子光学、离子光学、表面物理、材料制备等技术人员联合发起，团队全部为硕士以上学历或高级职称，具备专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验，在科研、产业等领域，沉浸多年，具备独立设计、项目承担、生产制造等综合能力。当前聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备，并在众多高校院所和产业单位得到青睐。

详细信息

高真空磁控离子溅射仪

GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪是一款容易操控的磁控离子溅射仪，为自动化技术镀膜机给予市面上最好使用价值的商品。它被用于非导电性样品的预备处理商品，以提升三维成像屏幕分辨率，样品导电率，电子电荷降低并减少对比较敏感样品的光线损害。

一、描述

1、全自动知识产品；

2、没有热损伤，效率更高，颗粒度更细，更适合高分辨电镜。

二、基本原理

将导电性原材料（如Pt-Pd，Pt，Au和Pd）涂敷到样品表面上的设备。除此之外，非导电性样品用以在透射电镜下开展数据可视化，及其维护样品表面免遭引入离子束的危害并帮助电子器件流动性。他们乃至可以作为塑料薄膜型电级的产生。

三、应用领域

1、高分辨扫描电镜样品制备（实际放大倍数≥100K）；

2、电极制备-可制备各种金属电极、ITO电极。

四、设备配置与技术参数

型号&名称	GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪
真空系统	涡轮分子泵（进口）：德国莱宝90i （单磁悬浮分子泵，抽速为90L/s）旋片式真空泵：浙江飞越VRD-4 （抽速为 1 .1L/s）
真空测量	全量程复合真空规（进口）：1.0E5Pa-1E-4Pa
系统极限真空	≤5E-3Pa
溅射电源	磁控溅射电源,功率150W
可用靶材	所有金属靶材，ITO靶材
溅射电压	300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化
溅射电流	0-200mA连续可调,步长5mA
溅射时间	0-9999s, 连续可调步长1s
操作界面	7英寸TFT彩色液晶触摸屏,分辨率800×480
操作方式	一键操作
抽气节拍	＜15分钟
控制方式	只需设定溅射电流和时间即可，全自动控制具备预溅射挡板（预溅射时间可设定),全自动控制
保护功能	软硬件互锁、防止误操作，具备电流、真空保护等
样品台直径	φ125mm，可自转，可自动手动控制，转速4-40rpm可调
真空室	高硅硼玻璃，规格尺寸约φ200×130mm
电源供电	220V 50Hz 功率800W
尺寸&重量	重量 424（长) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （净重)
冷却方式	内部风冷
选配	样品台选择、膜厚控制、温度监测等