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GVC-2000TD高真空磁控离子溅射仪
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北京格微仪器有限公司长期致力于打造以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造，产品包括：磁控离子溅射仪，高真空磁控离子溅射仪，手套箱镀电极制备镀膜仪，微纳器件制备镀膜仪，高真空镀碳仪。公司总部位于北京海淀中关村，有多名多年从事真空技术、电子光学、离子光学、表面物理、材料制备等技术人员联合发起，团队全部为硕士以上学历或高级职称，具备专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验，在科研、产业等领域，沉浸多年，具备独立设计、项目承担、生产制造等综合能力。当前聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备，并在众多高校院所和产业单位得到青睐。
详细信息
GVC-2000TD高真空磁控离子溅射仪产品优势：
●可制备各种金属、单质、无机非金属薄膜；
●不破真空情况下，可实现多层复合膜制备；
●一键操作，全自动控制，智能化程度高；
●一致性、重复性好；
●内置多重靶材工作参数，无需摸索镀膜工艺；
●体积小，结构紧凑，非常节约空间。
GVC-2000TD高真空磁控离子溅射仪产品参数：
外形尺寸（主机） | 424(L)×345(D)×420(H) | 输入电源 | 220V/50Hz 1000W |
溅射靶头 1 | 直流磁控溅射 | 可用靶材 | 金属靶材 |
溅射靶头 2 | 射频磁控溅射 | 可用靶材 | 无机非金属靶材 |
真空系统 | 涡轮分子泵+旋片式真空泵 | 抽速 | 90L/s + 1.1L/s |
真空测量 | 复合式真空规 | 量程范围 | 1E-3 ~ 1E5Pa |
真空室 | φ 200×130mm 高硼硅玻璃 | 抽气节拍 | 10 分钟（≤5E-3Pa） |
样品台尺寸 | φ 90mm | 样品台切换 | 自动控制 |
溅射靶材尺寸 | φ 57mm（厚度 0.1-2mm） | 工作真空 | 0.1-2Pa |
操作界面 | 7 英寸 TFT 触摸式液晶屏 | 操作语言 | 中文（可选其它语言） |
冷水机 | 小型台式制冷机 | 冷水机功率 | 180W |
预溅射挡板 | 标配全自动控制预溅射挡板 | ||
膜厚仪（选配） | 可实时显示镀膜厚度，并通过设定来控制镀膜过程，测量精度 0.01nm，设定精度 0.1nm，单次设定范围 1-999nm | ||
温控组件（选配） | 样品台加热模块 300℃/500℃ | ||
旋转组件（选配） | 倾斜旋转、行星旋转等 | ||
小车（选配） | 将主机、射频电源、冷水机等组装在一起，整体性好 | ||
安装环境 | 220V/10A 三孔插座一个、纯度 4N 及以上的高纯氩气（出口压力 0.12MPa） | ||
