$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>有掩模光刻机

VPG 200 / VPG 400 有掩膜光刻机

型号
VPG 200 / VPG 400
深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3年 

经销商

该企业相似产品

湿法匀胶工作台

在线询价

湿法匀胶工作台

在线询价

匀胶机

在线询价

匀胶机

在线询价

匀胶机

在线询价

匀胶机

在线询价

匀胶机

在线询价

匀胶机

在线询价
冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

 

 

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

1. 产品概述:

VPG 200 / VPG 400 体积图形发生器是光刻系统,为 i-line 光刻胶的多用途掩模制造而设计。它们支持所有标准的中小型面罩尺寸,大尺寸为 410 x 410 mm++2.

写入模式

I-QX系列

一代

二代

三代

写作表现





小结构尺寸 [μm]

0.75

0.75

1

2

小行数和间距 [μm]

1.5

1.5

2

4

地址网格 [nm]

12.5

12.5

25

50

边缘粗糙度 [3σnm]

30

40

50

70

CD均匀度 [3σnm]

55

65

75

110

拼接稳定性 [3σnm]

30

60

70

100

2 层对准 [nm]

225

225

350

500

写入速度 [mm²/min]

485

970

3150

6400

100 x 100 mm 的曝光时间2面积 [min]

28

14

5.6

3.5

系统特点


光源

355 nm 的高功率 DPSS 激光器

大基板尺寸

9 英寸 x 9 英寸/17 英寸 x 17 英寸

基板厚度

0 12 mm (可根据要求提供其他厚度)

大曝光面积

205 x 205 毫米2/ 410 x 410 毫米2

自动对焦

实时自动对焦系统(光学和气动)

自动对焦补偿范围

高达 80 μm

流量箱

(闭环)温控环境试验箱

对准

用于测量和对准的相机系统和软件包

其他功能和选项

2D载物台贴图和数据、Mura校正、边缘检测器、多种数据输入格式(DXFCIFGDSIIGerber等)、可选的自动掩模处理、可选的Zerodur®载物台和特殊卡盘



系统尺寸



系统 / 电子机架

宽度 [mm]

2605 / 800

深度 [mm]

1652 / 650

高度 [mm]

2102 / 1800

重量 [kg]

3550 / 180



安装要求


电气

400 VAC ± 5 %50/60 Hz16 A3

压缩空气

6 - 10










相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :